通过磁场控制,E-1045离子溅射仪可以更精确地控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀,更适合于微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射扫描电镜的高倍率观测应用。 此外,该仪器还可以通过向样品表面喷镀金、铂、钯以及混合靶材等金属元素,消除不导电样品的荷电现象,并提高观测效果。另外,可以使用喷镀附件对样品进行...
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日立E-1045离子溅射仪由日立高新技术公司自行设计制造,针对扫描电镜的 精细高端需求而设计,首次采用LCD触摸屏控制设计,操作方便且具有记忆 功能,可存储五种处理方案;通过选配测量单元可以实现1nm至30nm的镀层厚 度控制;通过磁场控制金属颗粒的溅射喷镀轨迹,从而使镀层更均匀,适合 微观结构较复杂的样品,尤其适合于场发射...
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