离子束辅助沉积 (IBAD) 是一种薄膜沉积技术,可与溅射或热蒸发工艺一起使用,以获得具有出色工艺控制和精度的最高质量薄膜。 IBAD 的定义是在高真空环境中应用物理气相沉积涂层 (PVD) 的同时,用离子束直接轰击基板。这使得离子轰击参数能够完全独立于其他沉积参数进行控制,以实现最大的过程控制。 基本技术有几个不...
离子束溅射沉积薄膜技术概述 维普资讯 http://www.cqvip.com
沉积原子为坚硬, 耐用的薄膜保留溅射能量 离子能量, 离子电流密度的控制 优良的反应沉积工艺 美国KRi RFICP 射频离子源技术参数: 上海伯东美国 KRi 射频离子源 RFICP 系列, 无需灯丝提供高能量, 低浓度的离子束, 通过栅极控制离子束的能量和方向, 单次工艺时间更长! 射频离子源适合多层膜的制备, 离子溅镀镀膜和...
离子束溅射沉积薄膜技术概述.doc,离子束溅射沉积薄膜技术概述 (@2007年第4期实验室科学2007年8月出版 离子束溅射沉积薄膜技术概述 郑长波徐惠敏杨恒齐曙光 (南阳师范学院物理与电子工程学院,教务处南阳市第八中学河南南阳473061) 摘要:离子束溅射技术是近些年发展起来的制备
双离子束溅射沉积系统技术优势 (1) 较宽范围材料适用性 与其它常规CVD、PVD镀膜技术相比,离子束溅射镀膜具有对薄膜材料较普遍的适用性,可溅射沉积的薄膜种类包括金属、非金属、合金、化合物和其它任何凝固态固体新材料,还可以合成非自然存在形式的材料薄膜。 (2) 控制薄膜微结构和性质的重要方法一低温IBAD 辅源离子...
1.一种制备掺杂类金刚石(DLC)涂层的多离子束溅射沉积方法,其特征在于:所述方法将离子束溅射沉积、离子束辅助沉积、离子束刻蚀清洗结合起来合成多元掺杂DLC涂层,所述方法包括以下步骤: (1)首先利用超声波清洗技术去除基体表面污染层; (2)利用离子源产生的氩离子束对工件表面进行离子束刻蚀清洗,获得原子级的清洁表面;...
4英寸双离子束溅射沉积镀膜系统 [1/1] |< < 1 > >|屹臻离子束技术(固安)有限公司 联系人:范先生 电话:13129929483 地址:河北省廊坊市固安县大清河园区中关村科技园科技成果转化基地1号楼 屹臻离子束技术(固安)有限公司 冀ICP备2024076948号 技术支持...
离子束溅射沉积(Ion Beam Sputtering Deposition,IBSD)技术的基本原理如图所示。在比较低的气压(通常低于1.0×10-2Pa)下,把离子源内经过聚焦的氩离子束以一定角度对靶材进行轰击,使靶材表面原子发生级联碰撞。在碰撞过程中,大量的原子脱离靶材表面,成为溅射颗粒并以一定的角度散射。由于真空室内背景气体分子比较少,溅射...
独立偏置靶材,专业用于控制沉积合金复合材料 100mm 直径样品表面处理 <3% 非均匀性(75 mm面积) 衬底样品表面等离子体清洗,刻蚀氧化,氮化 水冷,旋转,磁化,挡板样品台,加热至 600 C 单片样品传输台(load lock stage) 离子束溅射沉积系统信息由科睿技术发展有限公司为您提供,如您想了解更多关于离子束溅射沉积系统报价...
本发明涉及离子束技术领域,尤其涉及一种基于氮离子源的离子束反应溅射沉积设备,以及使用该设备的基于氮离子源的氮化铝薄膜制备方法和氮化铝薄膜。背景技术薄膜材料可分为:超导薄膜、导电薄膜、半导体薄膜、介质薄膜、电阻薄膜、光学薄膜、光电薄膜、压电薄膜、热电薄膜、铁电薄膜和磁性薄膜等等,已经成为许多尖端技术和新兴技...