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磁控溅射是一种通过物理方式在基片上沉积薄膜的技术。它利用高能粒子轰击固体靶材表面，将靶材的原子“打”出来，最终沉积到目标基片上，形成一层均匀的薄膜。听起来像是科幻电影里的场景，对吧？但这却是实实在在的科学。与传统溅射相比，磁控溅射加入了磁场的设计，让整个过程更高效、薄膜质量更优。工作原理 1. ...
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复合靶材若粘结不牢，也可能引发分层掉粉问题。2.3 解决方案 提高靶材致密性：通过改善生产工艺，如冷等静压（CIP）或热等静压（HIP），可以减少靶材面的孔洞和加工缺陷，提高致密度。优化溅射工艺参数：降低溅射功率，减少功率密度集中区域的温升或应力累积。通过多极磁控靶的设计，可以优化离子轨迹分布，降低靶材的...
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磁控溅射是物理气相沉积(Physical Vapor Deposition,PVD 磁控溅射原理 电子在电场E的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。
实验室数据表明，在不同条件下，靶材寿命存在显著差异。例如，在功率密度降低20%的情况下，靶材寿命延长了40%。通过绘制数据曲线，可以直观地分析工艺参数对靶材寿命的影响。四、如何延长磁控溅射靶材的使用寿命 1. 优化材料选择 （1）选择高密度、高纯度靶材例如，采用高密度ITO靶材可以减少裂纹的形成，提高抗消耗性能...
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