熔点1115。1、碳化锗锗有两种晶型，一种是白色四方晶体，熔点1086，密度6厘米，不溶于水。2、碳化锗另一种是白色六方晶体，熔点1115，沸点1200，密度4厘米，微溶于水。
本公开提供了一种碳化锗薄膜的制备方法,其包括步骤:步骤一,将待镀碳化锗保护膜的镜片放置在处理设备上,抽真空,加热;步骤二,氩气气氛下,真空及温度达到要求值后开启霍尔离子源对镜片进行离子清洗;步骤三,离子清洗完成后离子源通气改为碳源气体和氩气的混合气体,离子源产生大量碳离子;步骤四,产生碳离子后开启电子束...
碳化锗双层膜作为增透保护膜的制备及性能
关键词:碳化锗;ZnS红外窗口;增透保护膜 中图分类号:O484.5 文献标识码:A PreparationandPropertiesforGermaniumCarbideDouble2Layer FilmsUsedasAntireflectionandProtectionCoatings HUChao2quan 1 ,WANGXiao2yi 2 ,CHENHong 2 ,ZHENGWei2tao 13 (1.SchoolofMaterialScienceandEngineering,JilinUniversity, ...
高纯铬碳化锗粉,作为精细陶瓷材料的一种,具有卓越的物理和化学稳定性。店内热销的福斯曼品牌产品,以其-200 mesh的细腻规格、98%的高纯度受到广大客户的青睐。该产品储存稳定,保质期长,是科研实验和工业生产的理想选择。若您对高纯铬碳化锗粉有任何疑问或需求,请随时与我们联系,我们的专业团队将竭诚为您服务。
第Ⅳ主族元素单质及其合金材料是目前材料科学领域研究开发的重点和热点之一.碳化锗(Ge_(1-x)C_x)薄膜以其特有的结构,光学和电学性能引起了人们广泛的关注,特别是其折射率随着薄膜中锗碳含量的变化可以在大范围内调节,这种优良的性能使其适合制成多层红外增透保护薄膜.另外,碳化锗薄膜的光学带隙也可以随成分的变化...
碳化锗(Ge_(1-x)C_x)薄膜具有优良的光学和力学性能,这些特点使其可以应用为红外增透保护膜材料和半导体薄膜材料,并引起了研究者的广泛关注.迄今为止,对碳化锗薄膜的研究取得了显著的成就,然而尚且存在如下不足:(1)已有研究表明碳含量是影响碳化锗薄膜硬度的一个重要因素,但是文献报道的硬度结果差异较大,键合结构...
一种高硬度折射率可变的碳化锗薄膜的制备方法专利信息由爱企查专利频道提供,一种高硬度折射率可变的碳化锗薄膜的制备方法说明:本发明提出了一种高硬度的折射率可变的碳化锗(Ge1‑xCx)薄膜的制备方法,属于高性能红外硬质...专利查询请上爱企查
通过提高生长温度改善碳化锗薄膜的性能
霍尔离子源辅助制备长波红外碳化锗增透膜 为了提高锗基底的透过率和环境适应性,镀制了增透保护膜。应用电子枪蒸发加霍尔离子源辅助的方法沉积了碳化锗(Ge1-xCx)薄膜。通过固定霍尔离子源参数,控制沉积速率的工... 王彤彤 - 《发光学报》 被引量: 5发表: 2013年 非晶金刚石与非晶碳化锗复合增透保护膜系的设计...