1：20。CDS供液系统负责为作业主机提供配比好的腐蚀液（ 811硅腐蚀液和比例为1:20的 HF腐蚀液 ）。硅片腐蚀是指利用氢氧化钠对多晶硅腐蚀作用，去除硅片在多线切割锯切片时产生的表面损伤层，同时利用氢氧化钠对硅腐蚀的各向异性，争取反射率较低的表面织构。
1. 20%一般指的是什么，体积百分比还是别的百分比，文献里没有写？2. 文献里刻蚀液的成分只提到KOH水...
有脏东西不是你想象的腐蚀液问题，已经站内联系，欢迎讨论
试试磷酸吧，个人看法