制备过程需严格控制温度条件,以确保粒子性能稳定。化学合成方法在研磨粒子制备中有时能发挥关键作用。选择合适的溶剂对研磨粒子的分散性至关重要。制备时要精确计算各成分的比例,保证研磨效果。先进的过滤技术能去除杂质,提高研磨粒子纯度。采用特殊的搅拌方式有助于粒子均匀分布。制备过程中的环境湿度也会影响最终粒子的质...
纳米高纯硅研磨粒子是抛光液最主要的组成部分,在抛光过程中通过微切削、滚压等方式作用于被加工材料表面,达到机械去除材料的作用。纳米高纯硅是以水玻璃为原材料制备的硅溶胶研磨粒子。鼎龙自主开发了具有纯度高、粒径分布窄、去除效率高的纳米高纯硅研磨粒子,实现了抛光液核心原材料自主可控。
在抛光液领域有句话,叫“得研磨粒子者得天下”,研磨粒子代表抛光液产品的成本与技术能力。 鼎龙凭借在无机非金属团队领域的深厚积累,以及前瞻性的战略布局和不懈的科研努力,自研自产高纯硅、超纯硅、氧化铈、氧化铝等,半年的时间追平了国外30年的研发成果,于2022年成功实现了CMP抛光液核心原材料研磨粒子的全面产业化。
1. 视皮肤类型选择研磨颗粒大小 根据自己的皮肤类型选择适当的研磨颗粒大小非常重要。如果皮肤较为敏感,建议选择细沙磨砂。如果皮肤较为粗糙,可以选择粗沙磨砂。但不管选择哪种,都要注意使用频率和使用方法,避免对皮肤造成过度刺激。 2. 选择自己...
鼎龙股份董秘：感谢您的关注。目前在抛光液市场国内外参与者众多，公司抛光液与国内外厂商相比的竞争优势在于：①抛光液核心原材料中最关键的研磨粒子是自主生产，能够从原材料端对抛光液产品性质进行控制，同时我们的配方根据客户技术要求而定制，调控度、灵活度更高。②公司布局了半导体前段制程CMP环节的多款核心耗材，...
格隆汇7月16日丨鼎龙股份(300054.SZ)披露投资者关系活动记录表显示，研磨粒子是CMP抛光液的核心原材料，对抛光液产品品质有较大影响，同时在抛光液的材料成本中占比较高。公司实现了研磨粒子的自主制备，有助于增强公司抛光液产品供应链的安全、稳定、经济性，同时也能从研磨粒子入手对CMP抛光液产品进行定制化开发，使...
特殊研磨粒子工业百洁布是一种专为苛刻的工业清洁与抛光任务设计的高效工具，其独特之处在于采用了特殊配方的研磨粒子，增强了对各类材质表面处理的能力。这种工业百洁布主要由高强度纤维材料制成，内含精选的硬质磨料，如氧化铝、碳化硅或其他特种研磨粒子，通过科学配比和精密工艺混合镶嵌在纤维矩阵中。特殊研磨粒子工业...
鼎龙股份：在仙桃建设研磨粒子大规模量产线，将保障公司仙桃园区CMP抛光液生产原料供应 鼎龙股份11月22日在投资者互动平台表示，公司抛光液原料研磨粒子是自主生产。公司目前实现了超纯硅溶胶，水玻璃硅溶胶、氧化铝三类研磨粒子的自主制备，氧化铈研磨粒子的开发也在按计划推进中，同时公司在仙桃建设研磨粒子的大规模量产...
格隆汇7月16日丨鼎龙股份(300054)(300054.SZ)披露投资者关系活动记录表显示,研磨粒子是CMP抛光液的核心原材料,对抛光液产品品质有较大影响,同时在抛光液的材料成本中占比较高。公司实现了研磨粒子的自主制备,有助于增强公司抛光液产品供应链的安全、稳定、经济性,同时也能从研磨粒子入手对CMP抛光液产品进行定制化开发...
超声波结构研磨腔粒子研磨示意图 合理的粉碎室及转子结构形式是科力-KANA研磨技术的关键所在,优良的超声波自洁网球液分离技术,保证设备在使用极小微珠的状态下稳定可靠运行。超声波能量场与球磨机械力场耦合作用大大提升研磨分散效率。 其一,最佳的研磨腔高径比,双机械力场耦合作用 ,能量密度高,规则的旋转式运动轨迹,...