真空腔体是溅射镀膜设备的核心部件，负责维持镀膜环境的真空度。腔体材料需具备良好的密封性和抗腐蚀性。泵系统包括粗抽泵（如机械泵）和高真空泵（如扩散泵、涡轮分子泵），用于实现并维持高真空环境。高效的泵系统能够快速达到所需真空度，确保镀膜过程的稳定性和效率。B. 工艺参数及其影响 压力、功率、温度等参数...
第一章:真空溅射镀膜的基础理论 A. 真空溅射的基本原理 溅射效应的物理机制 溅射效应是一种由高能离子轰击固体表面引发的物理现象。该过程的核心在于动能的传递:当离子(通常是氩离子)在电场加速下获得足够的动能并撞击靶材表面时,动能传递给表面原子,导致原子脱离靶材表面并形成原子气相。这些气相原子随后沉积在基底上,...
根据真空度的不同,真空可以分为低真空(1大气压到10^-3帕)、中真空(10^-3帕到10^-6帕)、高真空(10^-6帕到10^-9帕)和超高真空(低于10^-9帕)。溅射镀膜通常在中高真空环境下进行,以保证离子的自由行程足够长,从而有效轰击靶材表面。 真空系统在溅射镀膜中的作用 真空系统在溅射镀膜中扮演着至关重要的
更多 规格 4mm 5mm 纯度 99.99% 99.999% 包装 袋装 真空包装 收起筛选 更新时间:2024年12月15日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 实力供应商 已核验企业 在线交易 安心购 查看详情 ￥700.00/件 河北保定 高纯钴靶 99.95Co 真空熔炼溅射镀膜材料 定制靶材 在线交易 金属靶材 北京瑞弛品牌 北京...
真空离子镀膜是一种重要的薄膜制备技术。相较于真空溅射镀膜，它具有更高的成膜速率，通常可达每分钟数微米至数十微米。此外，该技术还能在较低的温度下进行，减少了基板的升温问题。同时，通过控制离子能量和剂量，可以更精确地调控薄膜的微观结构和性能。然而，真空离子镀膜也存在一定的局限性，如设备成本较高、对...
在半导体工业中，真空溅射镀膜用于制备金属互连层、扩散阻挡层等薄膜。常用材料包括铝和铜，前者导电性高、成本低，后者抗电迁移性能更好。此外，TiN作为阻挡层材料具有良好的耐高温性，防止金属扩散。光学薄膜 真空溅射在光学薄膜制备中应用广泛，适用于抗反射膜、滤光片等。光学薄膜的厚度需极为精确，以保证其光学...
真空镀膜技术，简称PVD，是一种在真空环境中，通过物理手段使材料源气化成原子、分子或离子，进而在基体表面沉积形成具有特定功能的薄膜的技术。真空镀膜设备主要分为蒸镀、溅射和离子镀三大类别。其中，蒸发镀膜技术又可细分为电阻蒸发、电子束蒸发和感应加热蒸发等多种方式。而从宏观角度来看，真空镀膜技术主要涵盖蒸发...
应用实例：在OLED显示器的制造中，真空蒸镀技术被用于沉积有机材料层和金属阴极。这些层的厚度通常只有几十纳米，要求极高的均匀性和精度。真空镀膜技术不仅能够满足这些要求，还能通过多层叠加实现复杂的显示器结构，提高显示效果和器件性能。B. 航空航天工业中的应用案例 1. 涡轮叶片镀层中的溅射镀膜 涡轮叶片是航空...
真空直流溅射镀膜技术是一种先进的表面处理技术,广泛应用于材料科学领域。该技术通过在真空环境中利用直流电源激发溅射过程,将靶材原子或分子溅射并沉积在基体表面,形成一层薄膜。下面将详细介绍真空直流溅射镀膜的原理、特点及应用。 一、真空直流溅射镀膜的原理 真空直流溅射镀膜技术的基本原理是在高真空...
1. 光学真空镀膜的主要工艺技术 光学真空镀膜主要采用物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和离子束辅助沉积(IAD)等工艺。不同的工艺适用于不同类型的薄膜制备,并具有独特的技术优势和局限性。 A. 物理气相沉积(PVD) 物理气相沉积(PVD)是最常见的光学镀膜方法,包括蒸发镀膜和溅射镀膜。 1. 蒸发镀膜 蒸发镀膜技术...