亲直流(DC)磁控溅射、中频(MF)磁控溅射、射频(RF)磁控溅射特点如下平面型1.矩形:应用广泛,尤其适用于大面积平板的连续型镀膜;镀膜均匀性,产品的一致性较好.2.圆形:只适合于做小型的磁控源,制靶简单,适合科研中应用.电磁铁电流的磁效应:如果一条直的金属导线通过电流,那么在导线周围的空间将产生圆形磁...
1、样品台旋转，多样品同时镀膜时，镀膜厚度比较均匀。2、预溅射挡板功能，刚开始镀膜的时候腔室里会有...
3.射频(RF)磁控溅射 射频溅射特点 - 射频方法可以被用来产生溅射效应的原因是它可以在靶材上产生自偏压效应.在射频溅射装置中,击穿电压和放电电压显着降低.不必再要求靶材一定要是导电体.
DC只能溅射金属，RF还可以溅射氧化物。普通RF一般也就是13.56MHZ，但是其他的类似于中频溅射使用的场景...
3.射频(RF)磁控溅射 射频溅射特点 - 射频方法可以被用来产生溅射效应的原因是它可以在靶材上产生自偏压...
3.射频(RF)磁控溅射 射频溅射特点 - 射频方法可以被用来产生溅射效应的原因是它可以在靶材上产生自偏压...