但具有回收价值的大多物料，贵金属含量通常在1-100mg/kg，安科慧生发明专利（ZL 2015 1 0567341.1）的高灵敏度X射线荧光光谱仪PHECDA系列，与快速基本参数法（Fast FP）结合可以完成痕量贵金属的快速检测，具有检出限低、分析速度快、样品制备简单、分析成本低等特点，是发现贵金属的“一双眼睛”。
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多晶硅料中痕量金属杂质的检验方法主要包括X射线衍射（XRD）、原子吸收光谱（AAS）、电感耦合等离子发射光谱（ICP-OES）和电感耦合等离子发射光谱/原子吸收光谱（ICP-AES/AAS)。XRD是一项常用的分析方法，它能够快速准确地测定不同元素的浓度。AAS则是一项适用于低浓度元素分析的有效方法。ICP-OES是一项多元...
测试样品名称 各类金属 测量内容 杂质痕量半定量分析 检测结果 以报告形式出具 可售卖地 上海 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成...
使用ICP-MS分析高纯盐酸中的痕量金属杂质 前言盐酸 (HCl) 是标准 RCA 清洗过程中的一种组分,用于去除半导体生产中使用的硅片表面的有机和金属残留与杂质。清洗步骤在氧化和化学气相沉积 (CVD) 等高温处理过程之前进行。RCA 标准清洗 2 (SC-2) 可去除晶圆表面的离子污染物。SC-2 在 SC-1之后进行,可去除有机...
1.1 本试验方法适用于高纯钛中痕量金属杂质浓度的测定。 1.2 本试验方法适用于扇形磁辉放电质谱仪(GDMS)分析。 1.3 钛基体的金属杂质纯度必须达到 99.9 重量%(3N 级)或更纯。主要合金成分(例如铝或铁)的浓度不得大于 1000 重量 ppm。 1.4 本测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的操作...
2004年ASTM F2405-04使用高质量分辨率辉光放电质谱仪测量高纯度铜中痕量金属杂质的标准试验方法 1.1 本测试方法涵盖高纯度(99.95 wt.%,或更高纯度)电子级铜中微量金属杂质的浓度。 1.2 本测试方法适用于磁扇形辉光放电质谱仪的分析。 (GDMS).1.3 该测试方法不包括完成 GDMS 分析所需的所有信息。需要由经验丰富的...
锂电材料、高纯金属/合金、化工材料等痕量及超痕量杂质用的设备 关键词：酸纯化、亚沸提纯、湿电子化学品、痕量分析、G5、10ppt #化工# 随着半导体、考古学、法医鉴定等行业的发展，使用ICP-MS进行痕量、超痕量检测的需求越来越多，试剂不纯带来空白值高的问题已经制约了这些痕量检测技术的实际应用，含有杂质的空白...
文章编号:1000-7571(2004)02-0019-04 ICP-MS法测定金属铝中铜、钛、锌、锰、钴5种痕量杂质元素 王明海 (钢铁研究总院,北京 100081) 摘要:用标准加入法以电感耦合等离子体质谱测定金属中铝、铜、钛、锌、锰、钴,建立了一种简便、快速测定金属铝中杂质 元素的分析方法。实验中考察了5元素同时测定的仪器参数、Rh...