摘要 本发明提供了一种超薄镧锶锰氧薄膜界面死层的改善方法,包括如下步骤:(a)对SrTiO3基板进行表面台阶处理,获得具有TiO2表面台阶的基板;(b)采用脉冲激光法在步骤(a)所得的基板上沉积LaAlO3薄膜,使得在LaAlO3/SrTiO3界面出现二维电子气;(c)采用脉冲激光法在步骤(b)所得的LaAlO3/SrTiO3上沉积超薄La0.7Sr0.3MnO...
本发明首先采用酸将SrTiO3基板处理为具有特定宽度的原子级别的台阶状态,表面层单胞为TiO2,然后在其上沉积LaAlO3薄膜,使得界面处形成一层二维电子气,最后再沉积La0.7Sr0.3MnO3薄膜,从而减少甚至除去镧锶锰氧界面死层,该界面死层可通过控制LaAlO3的厚度和生长条件进行调控。在制备器件的过程中,采用LaAlO3作为界面层,可...