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阴极电弧离子镀设备 ·阴极电弧系列 产品介绍 PRODUCT DESCRIPTION 设备采用了阴极电弧蒸发离子镀的技术,该技术拥有沉积速率快,能量高,金属离化率高等特点;阴极电弧可根据不同要求进行组合性布局,适应各种工艺;设备具备操作简单、抽气速度快、移动式工件架布局、产量大、重复性好、效率高等特点;膜层具有耐盐雾性好、光泽...
MMLab-ARC II型高端电弧离子镀设备采用多弧源设计,可以同时进行多个靶材的蒸发和沉积,大大提高了生产效率。同时,设备还具有快速反应的特点,能够在短时间内完成表面处理,提高生产效率。 三、高精度:精密的控制系统,确保薄膜的质量和...
所属分类:中国机械设备网/其他涂装设备 本页链接:http://product.11467.com/info/1474412.htm 真空柱电弧离子镀设备 昆山立特纳米的文档下载:PDFDOCTXT 关于昆山金柏集成电路有限公司商铺首页|更多产品|联系方式|黄页介绍 主要经营:集成电路 ; IC ; tl431 ; 2sc2301 ; si2301 ; 2301 ; APM4953 ...
合同包1(广东省科学院新材料研究所电弧溅射复合离子镀设备采购项目): 供应商名称 供应商地址 中标(成交)金额 北京丹普表面技术有限公司 北京市昌平区沙河镇昌平路97号8幢B807 2,390,000.00元 四、主要标的信息 合同包1(广东省科学院新材料研究所电弧溅射复合离子镀设备采购项目): ...
空心阴极离子镀膜的条件 引燃空心阴极弧光需要具备以下条件: 1.用钽管制成的空心阴极枪安装在镀膜室壁上,可用于发射热电子流。坦管内径为φ6~φ15mm,壁厚为0.8~2mm。 2.电源由引弧电源和维弧电源并联组成。引弧电源电压为 800~1000V,引弧电流为30~50A;维弧电压为40~70V,维弧电流为80-300A。
磁控溅射 (Magnetron Sputtering)的介绍概念:利用气体放电产生的正离子在电场作用下轰击作为 阴极的靶,使靶材中的原子(或分子)逸出并沉积到基板 表面上形成所需要的膜。在阴极靶面上造一个正交的磁场, 使得电离的几率增加,就成为了磁控溅射。采用磁控溅射和电弧离子镀技术,在高速钢基体上制备了Ti/...
手机生产线设备收购 二手阴极电弧离子镀机回收 现款结算 价格 ¥ 17196.00 起订数 1个起批 发货地 广东汕尾 商品类型 转让租赁加工 、 废品回收 、 废旧设备 商品关键词 二手阴极电弧离子镀机回收、 二手涂装设备回收厂家、 二手镀膜机回收、 二手喷涂设备转让、 二手高阻隔膜卷绕镀膜机回收 ...
1. 磁场对多弧靶电弧燃烧稳定性的影响多弧离子镀设备靶源的真空电弧放电是以场致发射为主, 热电子发射为辅。场致发射所需的强电场是靠靶面前的空间电荷产生的, 这种真空电弧放电具有相当高的离化率, 一般离化率为60% ~90% , 在真空室内特别是靶面附近基本上是完全的等离子体。由于磁场对带电粒子的运动具有...
电弧离子镀设备中标候选人公示 发布时间:2018-06-06 10:04 中标公示本项目于2018年5月9日在株洲南方国宾酒店开标, 经评标委员会评审,并报招标人确定中标人,现公示如下: 一、中标基本情况: 招标人:中国航发南方工业有限公司 招标人联系电话:0731-28554408 招标人联系地址:湖南省株洲市董家锻 招标编号:0730-1842...