电子束光刻胶E-Beam 电子束光刻胶 :HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, 。EBL6000系列,Ma-N2400系列。纳米压印胶:mr-NIL 6000E, mr-L 900M, mr-UVCur21。光固化胶:Ormo 系列。 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同...
E-Beam 电子束光刻胶 产品关键词:电子光刻胶;电子束光刻胶价格;e-beam电子束;beam电子束 具体成交价以合同协议为准 公司名称 深圳市科时达电子科技有限公司 品牌 型号 产地 厂商性质 经销商 更新时间 2024/11/4 20:21:52 访问次数 88 在线交流 发送询价 进入商铺 同类产品 联系方式:林经理135...
电子束光刻胶E-Beam 电子束光刻胶 :HSQXR-1541-006, Z520, PMMA, 。EBL6000系列,Ma-N2400系列。纳米压印胶:mr-NIL 6000E, mr-L 900M, mr-UVCur21。光固化胶:Ormo 系列。免责声明:以上所展示的信息由企业自行提供,内容的真实性、准确性和合法性由发布企业负责,化工仪器网对此不承担任何保证责任。 在线...
电子束光刻(E-beam lithography)始于上世纪60年代,是在电子显微镜的基础上发展起来的用于微电路研究和制造的曝光技术,是半导体微电子制造及纳米科技的关键设备、基础设备。电子束光刻是由高能量电子束和光刻胶相互作用,使胶由长(短)链变成短(长)链,实现曝光。相比于光刻机具有更高的分辨率,主要用于制作光刻掩模版、...
电子束晶圆检测,是扫描电子显微镜(SEM)技术的应用。其使用高能电子与晶圆表面的物质发生相互作用时所激发出的信息进行成像。然后再通过图像处理和运算来实现对晶圆缺陷、关键尺寸等进行检测的目的。
型号 电子束曝光系统 CABL-9000C series 电子束光刻系统EBL (E-Beam Lithography)电子束直写系统 、 电子束曝光系统CABL-9000C series纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪 纳米科技提供 的电子束纳米光刻(EBL)系统,或称电子束...
上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 e-beam 电子束蒸发系统辅助镀膜应用 上海伯东美国 KRi 考夫曼离子源 KDC 系列, 通过加热灯丝产生电子, 是典型的考夫曼型离子源, 离子源增强设计输出低电流高能量宽束型离子束, 通过…
上海伯东的KRi考夫曼离子源KDC系列</: 作为电子束蒸发镀膜的得力助手，KRi的e-beam电子束蒸发系统搭载考夫曼离子源，通过加热灯丝产生高能量、宽束型离子束，以辅助镀膜技术（IBAD）实现精确的原子沉积。它的设计旨在输出低电流，但能量强大，能够增强沉积过程中的分子动力学，提升薄膜表面活性和流动性，从而...
电子束蒸发镀膜机E-Beam 概述:系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英晶体振荡膜厚监控仪、工作气路、抽气系统、控制系统、安装机台等部分组成。 详细介绍 1. 产品概述 电子束蒸发镀膜机E-Beam 系统主要由蒸发室、主抽过渡管路、旋转基片架、光加热系统、电子枪及电源、石英...
上海伯东代理进口电子束蒸镀设备是一种实用且高度可靠的系统, 蒸镀系统可针对量产使用单一坩埚也可以有多个坩埚来达到产品多层膜结构. 在基板乘载上针对半导体研究和大型设备设计, 单片和多片公自转的设计可以控制蒸发速率, 薄膜厚度和均匀度小于 +/- 3%. 腔体的极限真空度约为 10-8 Torr. 为了获得尽可能大的制...