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真空电子束蒸发镀膜仪 真空电子束蒸发镀膜仪是一种用于物理学、材料科学领域的工艺试验仪器,于2014年07月02日启用。技术指标 直径4英寸基片,片内均匀性优于±3%,片间均匀性优于±2%,重复性优于±2%。主要功能 蒸发沉积各种金属和介质。
高真空电子束蒸发镀膜仪主要用于制备各种导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜,微纳器件微加工,电镜样品预处理等,尤其适用蒸镀各种难熔金属材料。不仅可用于玻璃片、硅片等硬质衬底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性衬底上镀膜。 技术参数: 产品名称 高真空电子束蒸发镀膜仪 产品型号 CY-EBH500-SS 样品台 外形尺...
ULVAC ei-5z系列高真空蒸发镀膜设备是一款可同时安装电子束蒸发和热蒸发源的多功能蒸发台,可用于各种金属、合金、非金属蒸发镀膜,可做垂直入射蒸发工艺,可做穿墙式设计,采用全自动控制,稳定,高效。 高真空环境:提供高纯度膜层,适用于高精度研究和少量生产。