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电子束蒸发镀膜设备是一种用于数学领域的分析仪器，于2017年3月1日启用。技术指标 真空室极限真空度≤8E-5Pa，从大气抽至1E-3Pa时间≤40min，漏率≤2E-10AtmCC/Sec。电子枪：最大加速功率10KW，最大电流1A；偏转角270度。电子束位置调节范围至少覆盖+20mm到-20mm，电子束扫描范围至少覆盖+20mm到-20mm，电子...
1.打开电子束蒸发设备箱体,确保所有配件完好无损,无缺陷。 2.将电子束源、样品托板等配件装入设备,注意配件固定牢固,且无障碍物堵塞。 三、设备操作 1.打开电子束蒸发设备电源,启动电子束发射系统。 2.调节加热系统,根据所使用的材料类型和蒸发要求,设定合适的温度和加热时间。 3.调节电子束均匀性,确保电子束在样...
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电子束蒸发设备—E-Beam-HV 电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。
电子束蒸发设备—E-Beam-UHV 电子束蒸发设备可以在高真空和超高真空环境下实现精确的多层薄膜制备。线性电子束枪可以实现多种材料的蒸发。设备可选配考夫曼离子源实现晶圆的预清洗,可用于超导量子等领域,适用于高校及企业研发和小规模生产场合。
电子束及热蒸发设备 电子束及热蒸发设备是一种用于材料科学领域的工艺试验仪器，于2009年11月15日启用。技术指标 极限真空：4E-4Pa；膜后非均匀性：≤±5％（2英寸基片200nm金属Al薄膜）；膜厚仪控制精度：1？；膜厚仪速率精度：0.1？/sec。主要功能 金属、半导体和绝缘材料等沉积薄膜。