专用设备制造业 员工 电子束光刻技术工艺 | 电子束光刻技术是一种先进的微纳电子器件制造技术,它利用电子束曝光半导体材料的光敏剂上,以实现微细图形的传递。这项技术通常应用于芯片制造,包括集成电路(IC)和其他微纳米电子器件。 电子束光刻工艺流程:首先,选择适合的基片,通常选择硅基片。基片经过清洁和涂覆光刻胶...
该公司已经开始向半导体制造设备厂商提供样品,预计1纳米半导体技术将在2030年后普及,为人工智能(AI)和自动驾驶技术的进步提供支持。大日本印刷与比利时的半导体研发机构“imec”合作,开发了用于逻辑半导体的光掩膜,这种光掩膜在硅晶圆上的电路曝光过程中使用。为了实现1纳米级别的精确度,大日本印刷采用了先进的电子束绘图...