金融界2025年3月17日消息，国家知识产权局信息显示，瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司申请一项名为“一种双酚芴型树脂及其制备方法、负性光刻胶和应用”的专利，公开号 CN 119613687 A，申请日期为2024年12月。专利摘要显示，本申请涉及光刻胶领域，尤其是涉及一种双酚芴型树脂及其制备方法、负性光刻胶和应用。双
苏州瑞红电子化学品有限公司是国内领先的光刻胶企业，业务涵盖多种光刻胶类型，近年来增长强劲，并积极投入尖端光刻胶研发。苏州瑞红电子化学品有限公司，作为国内领先的光刻胶企业，已深耕光刻胶领域近30年。其光刻胶产品不仅规模化生产，更在销售规模和盈利能力上稳居国内前列。此外，近年来销售额和利润均呈现出强劲...
瑞红苏州申请一种正型高分辨率光刻胶专利，形成较高分辨率图形的光刻胶 金融界2024年9月10日消息，天眼查知识产权信息显示，瑞红（苏州）电子化学品股份有限公司申请一项名为“一种正型高分辨率光刻胶及其制备方法“，公开号CN202410871241.7，申请日期为2024年7月。专利摘要显示，本申请属于光刻胶材料技术领域，具体...
吴中发布消息显示,其中包括瑞红集成电路用高端光刻胶总部项目,瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司(以下简称“瑞红苏州”)计划总投资15亿元,新拿地建设半导体用光刻胶及配套试剂项目。 此前1月8日消息,晶瑞电材公告,控股子公司瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司为满足经营发展需求,已向中国石化集团资本有限公司定向发行...
苏州瑞红改进的新型高涂布均匀性负性光刻胶组合物,随着国内在产业下游印刷电路板、液晶显示器、芯片行业和国家科技重大专项政策的推动下,国产厂商如苏州瑞红已经实现了部分技术突破。
瑞红苏州取得耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法专利，所得光刻胶表现出良好的光刻精度和理想的耐刻蚀性 金融界2024年7月26日消息，天眼查知识产权信息显示，苏州瑞红电子化学品有限公司取得一项名为“耐刻蚀KrF光刻胶及制备方法“，授权公告号CN114236965B，申请日期为2021年12月。专利摘要显示，本申请涉及光刻胶的领域，...
RZJ-T3520 5~20UM厚膜光刻胶,用于先进封装及LED深槽制程 RZJ-5513 极限分辨率0.5UM的L线光刻胶,用于IC关键层制程 RZJ-5312 极限分辨率0.35UM的I线光刻胶,用于IC关键层制程 RZJ-3610 涂布性能优良,用于TFT-ARRAY制程 RZJ-3600 优异的通孔性能,用于TFT-ARRAY制程 RZJ-2500E TING,用于曲面TP行业关键层制程 RZJ...
瑞红苏州取得一种耐刻蚀的正性光刻胶专利，提高光刻胶膜的抗渗透能力 金融界 2024 年 8 月 20 日消息，天眼查知识产权信息显示，苏州瑞红电子化学品有限公司取得一项名为“一种耐刻蚀的正性光刻胶“，授权公告号 CN114326304B，申请日期为 2021 年 12 月。专利摘要显示，本申请属于光刻胶技术领域，具体涉及一...
负性光刻胶 应用领域为国内外新兴科技领域提供关键材料和技术服务
瑞红-光刻胶详解.pdf,SUZHOU RUIHONG ELECTRONIC CHEMICALS CO.,LTD B i d ? RZJ390PGS*j@BZ#R iEIBjkjl;!JJ@,PJM WSR FTN, STN-LCD, VFD$JfF, SeS@E,E%lW@,IZ%SEAIQR@fFI@BES+E,6, RZJ390PGgR ~ - I B ~ B J . 4.B83: 23 C, 0.4-0.6%NaOH, Imin, ll$jjji$s;g$ 5. Zg:...