涂胶/显影设备是在光刻工艺中与光刻机配合作业的重要设备。 在曝光前,由涂胶机进行光刻机的涂覆;而后是光刻机对光刻胶进行曝光;在曝光后由显影设备进行光刻图案的显影。在后道的先进封装中,使用类似前道的制造方式,所需涂胶/显影设备类别也大体相同,只在关键尺寸与精度上同前道有区别。 涂胶/显影机作为光刻机...
在论文中主要工作如下: 4 轨道式涂胶显影设备工艺原理及控制系统设计研究 1)、分析工艺原理,提出了设备的技术指标 从涂胶、显影的工艺原理入手,介绍了国内半导体厂家涂胶、显影工艺技术 的发展。通过对现有匀胶显影工艺的分析总结提出了轨道式涂胶显影设备的工艺 指标及功能配置要求。 2)、完成了在删7硬件平台上的...
通过触摸屏可以方便地实时观测为各模块单元的控制芯片;通过功能强大的CAN总线实现对各分散单元进行数据制系统思想,运用32位的ARM7芯片作为控制系统的管理核心,8位51芯片作套适合二线市场工艺使用的全自动涂胶、显影设备控制系统,该系统采用集散控本文通过对国际、国内现行的半导体涂胶、显影工艺过程的研究,设计了一不够...
轨道式涂胶显影设备工艺原理与控制系统设计分析 文档格式: .pdf 文档大小: 2.94M 文档页数: 79页 顶/踩数: 0/0 收藏人数: 1 评论次数: 0 文档热度: 文档分类: 高等教育--哲学 系统标签: 显影控制系统工艺轨道设计原理 AbstractWi廿lt11erapiddeVelopmentoftheICillduS奶,,廿ledomestictraditionalsecond・li鹏ch...