沈阳拓荆科技有限公司（现名拓荆科技股份有限公司）成立于2010年，总部位于辽宁省沈阳市，是国家集成电路产业投资基金控股的国家级高新技术企业。公司专注半导体薄膜沉积设备研发与生产，主要产品涵盖PECVD、ALD及沟槽填充设备等，核心技术指标达国际同类先进水平。2024年前三季度出货金额同比增长超160%，研发投入4.81亿元，...
沈阳拓荆科技最新招聘11个职位 工艺部长 沈阳|不限经验|本科以上|全职|￥2-4万·13薪 2天前 后勤实习生 沈阳|不限经验|本科以上|实习|￥120元/天 2天前 备件管理工程师 沈阳-浑南区|3-5年|本科以上|全职|￥7千-1.4万·13薪 14天前 仓储经理 ...
在芯片制造行业，有一种设备和光刻机同样重要，那就是薄膜沉积设备。近年来，沈阳拓荆科技有限公司(以下简称拓荆科技)凭借PECVD、ALD等一系列先进的半导体薄膜沉积设备，成为国内该领域的领头羊，引领行业快速发展。今年前三季度，拓荆科技出货金额同比增长超过160%，公司在手订单饱满，未来新签订单趋势乐观。聚焦主业 ...
拓荆科技股份有限公司成立于2010年4月,是国家高新技术企业,主要从事高端半导体专用设备的研发、生产、销售与技术服务。公司多次承担国家重大专项。多次获评中国半导体行业协会授予的“中国半导体设备五强企业”称号。公司于2020年在北京、上海、海宁成立三家子公司。 公司主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、...
拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司成立于2023年02月15日,注册地位于辽宁省沈阳市浑南区水家900号2号楼、3号楼,法定代表人为刘静。经营范围包括一般项目:技术服务、技术开发、技术咨询、技术交流、技术转让、技术推广,电子专用设备制造,电子专用设备销售,半导体器件专用设备制造,半导体器件专用设备销售,机械零件、零部件...
公司名称: 沈阳拓荆科技有限公司 法人代表: 姜谦 注册资本: 7117.479万人民币 经营状态: 存续 企业类型: 有限责任公司(中外合资) 所属行业: 电子/半导体/集成电路 成立时间: 2010年04月28日 统一社会信用代码: 912101005507946696 注册地址: 辽宁省沈阳市浑南区水家900号 公司地址: 辽宁省沈阳市...
拓荆科技(688072)4月8日午间公告，公司拟与沈阳市人民政府国有资产监督管理委员会（简称“沈阳市国资委”）及其他产业合作方共同发起设立辽宁省集成电路装备及零部件创新中心（简称“创新中心”）。拓荆科技是国内量产型PECVD（等离子体增强化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、SACVD（次常压化学气相沉积）、HDPCVD（高...
综上所述,基于这些描述和一些细节的了解,沈阳拓荆科技看起来是个不错的选择,特别是对于寻找成长和发展机遇的求职者来说。但是最终决定是否适合还需要看你的个人情况和对行业的了解等等的因素综合考虑再做定论,如果有更多需要咨询的问题也欢迎进一步提问哦! 2楼2023-09-25 06:17 回复 ...
沈阳拓荆科技有限公司武汉分公司创设于2019年01月29日,公司地点位于武汉市东湖新技术开发区长飞南路以西、当代科技以南现代·森林小镇公建区A栋6层20号u0027u0027武汉市u0027);zhugeTrack;武汉市东湖新技术开发区长飞南路以西、当代科技以南现代·森林小镇公建区A栋6层20号;市场范围为纳米级镀膜设备及其零部件的研...
发展前景好:作为国内薄膜沉积设备产业化先锋,沈阳拓荆科技具有良好的发展前景。公司多次承担国家重大专项课题,这表明在行业中具备较强的研发能力和创新潜力。技术实力较强:沈阳拓荆科技已经形成了一系列薄膜设备产品系列,在集成电路逻辑芯片、存储芯片等制造产线上取得了成功应用。 沈阳拓荆科技有限公司 4.6分 4赞 ...