氧化铝陶瓷 1. The research developed the high temperature glaze suitable for Al2O3 ceramics in metallized process under 1450℃. 本文总结并实验对比了国内外的几种高温釉,从而提出釉料化学性质、釉料中氧化铁等变价元素以及原料矿物组成是导致氢烧釉面失光的主要因素,并成功试制出适宜于氧化铝陶瓷以及1450℃金...
陶瓷膜在氢氧化铝微粉生产中的应用 3. Study of Properties of Micro-arc Oxidation Ceramic Coating on LY12 Aluminum Alloy LYl2铝合金微弧氧化陶瓷膜的性能研究 4. line alumina ceramics 透明多晶氧化铝陶瓷 5. Alumina ceramic substrates for thick film integrated circuits GB/T14619-1993厚膜集成电路用氧化...
大部分的电路实现了与氧化铝陶瓷基板上芯片组件使用混合集成薄膜技术。在某些情况下电阻也实现了使用氮化钽薄膜技术。芯片被装入导电环氧复合介质基片上。热压粘合作了半导体芯片组件的连接。氧化铝陶瓷基板与完全黄金层的底部表面使用了。这底部表面被用作地面飞机。通过与地平面的连接被形成了由 0.45 m m,超声钻好的孔...