干法氧化,通过输入纯氧,使其在晶圆表面流动,从硅进行反应,形成二氧化硅层。湿法氧化,是同时使用氧气和高溶解度的水蒸气。 干法氧化的速度慢,但形成的氧化层很薄,而且致密。湿法氧化的速度快,但保护层相对较厚,且密度较低。 目前,干法氧化是半导体制造中的主流技术。湿法氧化更多用于非关键层或特定厚膜需求场景。 █...
一般是用氧化硅和光刻胶作为离子注入的掩模材料。 1.1 光刻胶作为离子注入掩模: 优点: 工艺简单:光刻胶容易涂覆和显影,可以做出复杂和高分辨率的图形。离子注入后直接除胶即可,不需要再对掩模进行刻蚀,工艺周期短; 易于去除:相对于氧化硅,光刻胶更...
利用天然氧化层掩模的真空紫外硅闪耀光栅的湿法刻蚀制作的任务书任务书:题目:利用天然氧化层掩模的真空紫外硅闪耀光栅的湿法刻蚀制作研究目的:本课题的研究目的是利用天然氧化层掩模的真空紫外硅闪耀光栅的湿法刻蚀制作方法,对光栅结构进行设计,并通过刻蚀技术制作出光栅样品。通过对实验结果的分析,可以探讨不同的刻蚀参数对...
在离子注入过程中,选择合适的掩模材料至关重要,它涉及多方面的考量,如工艺需求、材料特性以及成本效益等。光刻胶与氧化硅这两种常见掩模材料,各自具有独特的优点,在不同的应用背景下都能发挥其长处。对于追求高效率、灵活性以及成本控制的工艺来说,光刻胶通常被视为理想之选。其简便的工艺流程和易于去除的特点...
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本报告研究全球与中国市场旋涂金属氧化物硬掩模的发展现状及未来发展趋势,分别从生产和消费的角度分析旋涂金属氧化物硬掩模的主要生产地区、主要消费地区以及主要的生产商。重点分析全球与中国市场的主要厂商产品特点、产品规格、不同规格产品的价格、产量、产值及全球和中国市场主要生产商的市场份额。
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字词 氧化掩模 释义 【计】 oxidation mask 随便看 熔凝硝酸银 熔凝碳酸钾 熔凝量热器 熔凝铝土 熔凝锆土 熔切炬 熔刮 熔剂 熔剂处理 熔剂焊媒 熔剂覆盖法 熔化 熔化器 熔化器具 熔化带 熔化期 熔化极加压惰性气体保护焊 熔化极惰性气体保护焊 熔化极气体保护焊 熔化极活性气体保护焊 熔化极脉冲氩弧焊 ...
2) oxidation mask 氧化掩模3) iron oxide mask 氧化铁掩模4) oxide masking technique 氧化物掩模技术5) mask optimization 掩模优化6) mask degradation 掩模老化补充资料:光学掩模版 分子式:CAS号:性质: 在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并精确定位,以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种...