气体团簇离子束在这一方面优势十分突出。气体团簇是在物理或化学作用下,由几个到数万个原子或分子组成的相对稳定的聚集体。气体团簇在电子的轰击下,可以电离化,而电离化的气体团簇在电场的作用下获得很大的动能,也可以在磁场的作用下进行过滤,进而得到能量分布更为集中的气体团簇离子束。等离子表面处理机气体团簇离子束...
气体团簇离子束在这一方面优势十分突出。气体团簇是在物理或化学作用下,由几个到数万个原子或分子组成的相对稳定的聚集体。气体团簇在电子的轰击下,可以电离化,而电离化的气体团簇在电场的作用下获得很大的动能,也可以在磁场的作用下进行过滤,进而得到能量分布更为集中的气体团簇离子束。等离子表面处理机气体团簇离子束...
(1)本发明气体团簇离子束质谱的测量方法和装置利用带有与场效应晶体管连接的法拉第杯精确感应不同质量离子的信号,利用由场效应晶体管(fet)、双电源(正负电源)和两个负载电阻(法拉第杯负载电阻和示波器负载电阻)组成的源极跟随器,大幅降低电容,从而降低时间常数,有效提高探测器响应灵敏度,进而提高质谱分辨率,获得完美的...
本发明同时提供了一种基于上述方法的脉冲气体团簇离子束在线监测系统,包括与进气管连通的脉冲阀和脉冲阀出口端的喷嘴,以及位于喷嘴喷出方向直线上依次排布的分束器、电离器、加速器、速度选择器、光阑(即为带孔屏障,限制偏转团簇穿过,只允许重团簇离子达到终端)和法拉第杯。 所述脉冲阀喷出的每个气体脉冲为5～20ms。
2、本发明是这样实现的,一种增强气体团簇离子束溅射固态靶原子产额的方法,增强气体团簇离子束溅射固态靶原子产额的方法包括:确定尺寸的ar气体团簇离子束和纳米硅(si)粉体压铸靶,ar气体团簇离子束轰击到纳米si粉体压铸靶上,溅射产生的部分si纳米颗粒被收集器所俘获。
本文提出采用气体团簇离子束的两步能量修形法来改善4H-SiC(1000)晶片表面形貌. 先用15 keV的高能Ar团簇离子进行整体修形, 再用5 keV的低能团簇离子优化表面. 结果表明, 在相同的团簇离子剂量下,与单一15 keV的高能团簇处理相比, 两步法修形后的表面具有更低的均方根粗糙度, 两者分别为1.05 nm和0.78 nm. ...
根据一个实施例,描述了一种执行工件的校正处理的方法。该方法包括使用气体团簇离子束(gcib)在工件的表面的一个或多个区域上选择性地形成牺牲材料,以及在选择性形成之后通过执行蚀刻工艺来调整工件上的表面的表面轮廓。蚀刻工艺蚀刻牺牲材料和工件材料。 根据另一个实施例,该方法包括:获取工件的度量数据;以及使用度量数据...
一种气体团簇离子束平坦化磁性隧道结底电极的方法专利信息由爱企查专利频道提供,一种气体团簇离子束平坦化磁性隧道结底电极的方法说明:本发明提供了一种气体团簇离子束平坦化磁性隧道结底电极的方法,采用气体团簇离子束对磁性隧道结底电...专利查询请上爱企查
一种气体团簇离子束在衬底中形成非晶层的方法专利信息由爱企查专利频道提供,一种气体团簇离子束在衬底中形成非晶层的方法说明:一种气体团簇离子束在衬底中形成非晶层的方法,用于使衬底的一部分非晶化的方法,设置具有第一部分和...专利查询请上爱企查
摘要 一种形成具有多个气体源的气体团簇离子束的方法,包括:提供减压外壳;使用静态泵将低压过程源和高压稀释剂源混合以形成混合源,其中低压过程源到静态泵的输送压力大于约5托而小于约5托高压稀释气体至静态泵的输送压力大于约5巴且小于约30巴。使用混合源产生气体团簇射流,该混合源包括在减压外壳内的多个气体团簇;在...