【芝能智芯——极紫外 (EUV) 光刻工作组会议报告-1:现状、需求和前进道路】半导体制造领域的一项主要进步是使用极紫外(EUV)光(波长13.5纳米)进行光刻。EUV光使得半导体上可以制造更小的特征,增加了器件面积密度。开发商用高吞吐量的EUV仪器已经创造了批量生产的能力,其中包括了新型晶体管设计和芯片架构。
2023年8月22日,美国国家标准与技术研究院(NIST)发布《极紫外光刻(EUVL)工作组会议报告:现状、需求和前进道路》。围绕EUVL的研究、开发和制造,2023年4月25日NIST举行了交叉工作组会,对EUVL的许多关键技术问题和所需计量学进展进行了富有成效的讨论。根据EUVL工作组会议讨论...
2023年8月22日,美国国家标准与技术研究院(NIST)发布《极紫外光刻(EUVL)工作组会议报告:现状、需求和前进道路》。围绕EUVL的研究、开发和制造,2023年4月25日NIST举行了交叉工作组会,对EUVL的许多关键技术问题和所需计量学进展进行了富有成效的讨论。根据EUVL工作组会议讨论结果,报告简要概述了EUVL五方面技术主题并提出...
为了帮助减轻成本和工作量,未来的活动可以在常见的专业会议上进行。 工作组可能采取的未来行动包括扩大NIST和行业的参与,精细化研究子团队以满足EUVL的特定需求,并执行在工作组会议和任何更大规模的未来会议中讨论的优先研究。通过与EUVL产业的互动,有望推动合作,并加速半导体制造创新。