本发明涉及一种在有机无机杂化光刻胶的薄膜形成工艺,显影工艺,剥离工艺中使用的有机无机杂化光刻胶工艺液体组合物及其处理方法.工艺液体组合物由:化学式1的化合物,以及酮类,酯类,醚类,添加剂或它们的混合物组成.工艺液体组合物不仅对有机物的处理优异而且对无机物的吸附能力优异而使无机物的残留最小化,从而能够...
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本发明公开了一种有机无机杂化负性光刻胶及其制备方法。属于光学成像技术领域;其制备步骤:首先制备了TiO<subgt;2
本发明公开了一种有机无机杂化飞秒激光直写光刻胶,按质量百分比计,由46wt%的酸A,23wt%的单体B,23wt%硫醇化合物C,0.21.0wt%光引发剂D及8791.8wt%溶剂E组成.酸A为锆基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或两者的混合物,作为飞秒激光直写光刻胶的固态成膜树脂,可以在光刻胶涂膜后将光刻胶固态化,由此降低加工过程中...
本发明公开了一种有机无机杂化飞秒激光直写光刻胶,按质量百分比计,由46wt%的酸A,23wt%的单体B,23wt%硫醇化合物C,0.21.0wt%光引发剂D及8791.8wt%溶剂E组成.酸A为锆基丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯或两者的混合物,作为飞秒激光直写光刻胶的固态成膜树脂,可以在光刻胶涂膜后将光刻胶固态化,由此降低加工过程中...
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一种有机无机杂化负性光刻胶及其制备方法本发明公开了一种有机无机杂化负性光刻胶及其制备方法.属于光学成像技术领域;其制备步骤:首先制备了TiO 吴星磊周钰明盛晓莉卜小海何曼
本发明涉及一类表面修饰的二氧化铈纳米颗粒,其中,所述二氧化铈表面被式(I)所示的双羧酸衍生物所修饰;其中,所述R1,R2相同或不同,独立的选自:氢原子,C140烷基,C240烯基,COOC140烷基,或COOC240烯基,且R1,R2中至少有一个为COOC140烷基,或COOC240烯基.该类纳米颗粒在各种极性溶剂中都具有良好的溶解性,适于制成...