金属有机化学气相沉积(Metal-organic Chemical Vapor Deposition ,MOCVD),也被称为金属有机气相外延(Metal-organic Vapor-Phase Epitaxy,MOVPE),是在气相外延生长(Vapor-Phase Epitaxy)基础上发展起来的一种新型气相外延生长技术。 这种技术始于1968年,利用有机金属化...
有机金属化学气相沉积法（MOCVD，metal-organic chemical vapor deposition），用于在基板上生长半导体薄膜，进而可以制作光电、电子元件等。MOCVD设备 工艺介绍 MOCVD生长薄膜，载流气体通过金属反应源容器（起泡器蒸发前驱体），将反应源的饱和蒸气带至反应腔中与其它气体混合反应，然后在被加热的基板上面发生化学反应生长...
主要功能和应用的范围:MOCVD主要功能在于沉积高介电常数薄膜,可随着precursor的更换,而沉积出不同种类的薄膜。对于LED来说,LED芯片由不同半导体材料的多层次架构构成,这些材料放在一个装入金属有机化学气相沉积系统的圆形芯片上。这个过程叫做晶体取向附生,对于决定LED的性能特徵并因此影响白光LED的装仓至关重要。 MOCVD...
MOCVD是一种化学气相沉积技术，通过将金属有机前体和气体反应在基底表面上，形成所需的薄膜材料。MOCVD设备的工作原理是将金属有机前体和反应气体引入反应室，通过热解和反应生成所需的薄膜材料。反应条件（如温度、压力和气体流量）可以调节以控制薄膜的成分、结构和性质。MOCVD设备广泛应用于半导体、光电子、光伏和显示...
解析 答案:金属有机化学气相沉积技术通过使用金属有机化合物和非金属氢化物作为前驱体,在较高温度下进行气相反应,沉积出高纯度的薄膜材料。MOCVD在制备III-V族化合物半导体、稀土材料以及多功能薄膜等方面具有重要作用,对于发展高性能电子器件和光电子器件至关重要。
有机金属化学气相沉积法（MOCVD），用于制造半导体薄膜，进而生产光电、电子元件。该工艺将载流气体通过金属反应源容器蒸发前体，将饱和蒸气带到反应腔与其它气体混合，随后在加热的基板上进行化学反应生成薄膜。常用基板包括砷化镓、磷化镓、磷化铟、硅、碳化硅和蓝宝石等，生长的薄膜主要为三五族化合物半导体...
欧洲是最大的金属有机化学气相沉积(MOCVD)(Metal Organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD))市场,约占47%的市场份额,其次是美国,约占30%的市场份额。 QYResearch(恒州博智)在化学、能源、汽车、医疗、大型机械设备、耐用消费品、农业、化妆品、电子、建筑、食品、服务业等研究领域为客户提供专业的市场调查报告、...
百度试题 结果1 题目金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术常用于生长___材料。相关知识点: 试题来源: 解析 答案:化合物半导体 反馈 收藏
MOCVD系统的各个组件包括反应腔、气体控制及混合系统、反应源及废气处理系统，它们共同协作完成有机金属化学气相沉积的过程。首先，反应腔（Reactor Chamber）是核心部分，主要由不锈钢或石英制造，内壁常有高温陶瓷内衬。腔体内设有乘载盘，一般使用石墨，既能吸收加热器能量以维持适宜的生长温度，又不会与...