3.随着提取液滴在晶圆表面上移动,它会收集溶解态 SiO2 与所有污染物金属 4.将提取液滴从晶圆表面上转移至 ICP-MS 或 ICP-MS/MS 系统中进行分析 http://nj.migelab.com/Article/articleDetails/aid/19517.html
VPD-ICP-MS测试是一种基于化学分解和质谱分析的技术,主要用于晶圆表面金属元素分析。该技术的原理是将硅片置于VPD室中,并暴露于HF蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的SiO2表面层。然后将提取液滴(通常为250 μL的2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,以精心控制的方式倾斜,使得液滴在晶圆表面上“扫掠”。最后通过ICP-MS进行...
3.随着提取液滴在晶圆表面上移动,它会收集溶解态 SiO2 与所有污染物金属 4.将提取液滴从晶圆表面上转移至 ICP-MS 或 ICP-MS/MS 系统中进行分析 除了以上操作过程中我们要避免在实验室二次污染我们操作过程中对环境及样品运输都有一个严格的标准,关于正确的运输包装我们建议您: VPD ICP-MS结果展示 样品大小:最...
3.随着提取液滴在晶圆表面上移动,它会收集溶解态 SiO2 与所有污染物金属 4.将提取液滴从晶圆表面上转移至 ICP-MS 或 ICP-MS/MS 系统中进行分析 除了以上操作过程中我们要避免在实验室二次污染我们操作过程中对环境及样品运输都有一个严格的标准,关于正确的运输包装我们建议您: VPD ICP-MS结果展示 样品大小:最...
VPD-ICP-MS测试是一种基于化学分解和质谱分析的技术,主要用于晶圆表面金属元素分析。该技术的原理是将硅片置于VPD室中,并暴露于HF蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的SiO2表面层。然后将提取液滴(通常为250 μL的2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,...
VPD ICP-MS检测过程 测试过程(可实现全自动化)包括四个步骤: 1.将硅片置于 VPD 室中,并暴露于 HF 蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的 SiO2表面层 2.将提取液滴(通常为 250 μL 的 2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,然后以精心控制的方式倾斜,使得液滴在晶圆表面上“扫掠” ...
VPD ICP-MS检测过程 测试过程(可实现全自动化)包括四个步骤: 1.将硅片置于 VPD 室中,并暴露于 HF 蒸气中以溶解自然氧化物或热氧化的 SiO2表面层 2.将提取液滴(通常为 250 μL 的 2% HF/2% H2O2)置于晶圆上,然后以精心控制的方式倾斜,使得液滴在晶圆表面上“扫掠” ...