晶圆喷胶显影机台的工作流程通常包括以下几个步骤: 1. 晶圆装载:将待加工的晶圆放置在机台的夹具上,通过机械手臂将晶圆送入机台内部。 2. 气动喷涂:将光阻液均匀地喷洒在晶圆表面。 3. 曝光:通过紫外线照射,使光阻液固化在晶圆表面。 4. 显影:...
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在多腔室的track机台,用到热板的次数相对变多,那么热板的数量要大于冷板数量,可以按4:1或3:1的比例配置。而在腔室数量较少的track机台中,或某些干膜的显影机台中,也见过1:1的比例。当然在配置的核心是不让晶圆长时间等待下一个工序,合理利用机台。例如与某款track机台共有4个腔室,预留了热板与冷板的位置...
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金融界2025年4月15日消息，国家知识产权局信息显示，合肥晶合集成电路股份有限公司取得一项名为“一种涂胶显影机台的清洗装置及涂胶显影机台”的专利，授权公告号 CN 222753875 U，申请日期为 2024 年 5 月。专利摘要显示，本实用新型提供了一种涂胶显影机台的清洗装置及涂胶显影机台，包括底座，转动设于涂胶显影机...
一、湿法腐蚀机用途和特点: 1、 用途:主要用微细加工、半导体、微电子、光电子和纳米技术工艺中在硅片、陶瓷片上显影,湿法腐蚀,清洗,冲洗,甩干与光刻、烘烤等设备配合使用。设备能满足各类以下尺寸的基片处理要求,并配制相应的托盘夹具。 2、湿法腐蚀机特点: (1)外观整洁、美观,占地面积小,节省超净间的使用面积;...
一、白光区涂胶显影机台的工作原理 白光区涂胶显影机台是一种在光照条件下进行显影的、涉及到胶卷和胶片的专业设备。它通过涂胶和显影的过程,将白光区的图像形成在干燥的胶片上。具体来说,该机台先将胶液均匀地涂在胶片表面上,待胶液干燥后,再通入白光区,使白光能够透过胶片形成图像。之后,再将胶片放...
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KS-M300半自动机台是一款多功能设备,专为单片晶片的涂胶、显影、喷胶、清洗、刻蚀及去胶工艺等一系列复杂工艺流程而设计。同时,它也可以高效地处理掩膜板的涂胶、显影和清洗工艺。这款机器特别适合小批量生产的工艺试验和生产线,不仅满足了科研人员和工程师在实验阶段的需求,也为小规模生产提供了高效的解决方案。 KS...