不同领域的显影工艺。 胶片摄影领域。 在传统胶片相机拍照后,胶片上会留下潜影。这就像是一个隐藏的图像,肉眼看不到。 显影过程就是把胶片放进显影液里。显影液中的化学物质会和胶片上已经感光的卤化银晶体发生反应,将它们转化为黑色的金属银。那些没感光的卤化银晶体则不会发生变化。这样一来,胶片上就出现了黑色...
Lith Process是一种替代的照相印刷工艺，它利用感染性显影来实现其独特的外观。平版印刷通常具有粗糙且粗糙的阴影。在平版印刷显影中，将甲醛添加到显影剂中，以锁定用于调节“正常”黑白印刷中显影的过量亚硫酸盐 Lith显影作品 作品作者 ：风华 Lith Process放大显影，有需要航空胶片以及Lith Process照片放大的爱好者可以...
显影工艺危险有害因素分析 显影工艺中化学药剂挥发会带来空气污染问。部分显影液具有强腐蚀性，易伤害操作人员皮。显影设备运行时可能产生高温，存在烫伤风。若显影液储存不当，可能发生泄漏污染周边环。显影过程中的噪声会对工作人员听力造成损。一些显影药剂接触火源有引发火灾的可能。显影设备长期使用可能出现电路老化漏电...
分享一:负显影工艺概念? 负显影,即negative tone develop,简写NTD。它是结合使用正胶,搭配负显影液来实现和负胶类似的效果,这里所说的显影液,注意不是以往常见的TMAH水溶液,而是有机溶剂,后续的冲洗使用的也是有机液体。负显影工艺技术也能够使得用亮掩膜版在正胶上实现较小尺寸的曝光图形,业内的NTD技术一般应用在...
显影工艺包括三个过程:显影、冲洗和甩干(见下图)。冲洗过程会稀释显影剂并阻止过度的显影,甩干过程使晶圆预备进行下一道工艺流程。 正胶通常使用弱碱物质作为显影剂。碱性的水溶液如NaOH和KOH都可以使用,然而这样会引人不需要的钠、钾等可移动离子,这些离子会造成元器件损伤,因此大部分半导体生产中使用非离子性的碱性...
该工艺利用光敏材料在紫外光照射下发生化学反应的特性,将电路图案转移到待加工的基板上。以下是铝合金曝光显影工艺的主要步骤: 1. 准备工作:首先,需要选择合适的光敏材料(如光刻胶)和基板(如硅片或玻璃)。然后,将光敏材料涂覆在基板上,并通过热处理使其固化。 2. 掩膜制作:使用计算机辅助设计(CAD)软件设计所需的...
超声波喷涂技术凭借高频振动将光刻胶雾化成纳米级颗粒，以均匀、可控的方式喷涂于晶圆表面，在半导体光刻涂胶显影工艺中展现出独特价值：1. 复杂结构涂覆优势：针对深沟槽、高深宽比等复杂晶圆结构，传统旋涂易出现边缘不均、胶层堆积问题，而超声波喷涂可实现无死角均匀覆盖，确保图形精度。2. 材料利用率提升：通过...
PCB显影工艺流程是指将已经曝光形成的PCB板进行显影处理，去除掉未曝光部分的光敏胶膜，使其形成线路图案的过程。下面将详细介绍PCB显影工艺流程。1.准备工作：首先要进行物料准备，包括显影剂、脱膜剂、洗涤剂、酸性去膜剂、碱性去膜剂等。同时，准备好所有所需设备和工具，如显影槽、电梯架、压岁子、止血刀、干燥...
半导体 | 光刻工艺(上)：表面制备、涂胶、软烘培、曝光 光刻工艺: 从显影到显影检查↓↓↓ 五、显影 晶圆完成对准和曝光后，器件或电路的图案被以曝光和未曝光区域的形式记录在光刻胶上。通过对未聚合光刻胶的化学分解来使图案显影。显影技术被设计成使之把完全一样的掩模版图案复制到光刻胶上。不良的显影工艺...
曝光显影工艺就是指利用物质这一特点,由高精度紫外平行光源通过掩膜版对涂有特定吸收波长的专用油墨进行紫外光照射,然后通过化学去除多余涂层,从而达到图形转印的过程称之为曝光显影工艺。3D 曲面玻璃利用曝光显影工艺正好可以解决遮蔽油墨不能通过传统印刷的问题,具有精度高,量产性好,良率高等特点。图:3D CG玻璃白片 ...