掺钪氮化铝具有优异的物理、化学和光学性质,因此在光学、电子器件等领域有广泛的应用。例如掺钪氮化铝可用于制备高效发光体和激光器,应用于光纤通信和微波通信领域,具有较好的应用前景。 总之,掺钪氮化铝是一种引人注目的新型材料,其在光学、电子器件等领域的应用越来越广泛。 以上内容来自深圳市搜了...
目前,在掺钪氮化铝的干法刻蚀中,最常用的是反应离子束刻蚀(RIE),该方法基于等离子体物理现象进行刻蚀,掺杂氟等离子体,使其在离子束中释放(打蚀)出样品表面的物质。RIE刻蚀的优点之一是可以通过改变反应气体比例、气压和功率实现可控的刻蚀深度和形状,同时还可以通过适当的消除反冲离子来减少离子的伤害。 四、刻...
该FBAR工艺流程基于自主研发的工艺体系,基于三种不同压电薄膜的工艺路线于近期正式通线。 滤波器OM图 产品FIB切片图 目前已通线9.6%掺钪、20%掺钪、30%掺钪氮化铝产品可以分别达到10%、15%、20%的Kt2,并且实现2GHz-4GHz内不同频率范围,属于业界领先水准。 9.6%掺钪氮化铝谐振器阻抗曲线@2GHz 20%掺钪氮化铝...
上海大学集成光子芯片实验室(PCL)的研究人员将400 nm厚的掺钪氮化铝AlScN薄膜集成在脊波导和叉指换能器结构上,首次实现了基于AlScNOI(绝缘体上AlScN)平台的声光调制功能验证。通过优化器件结构设计,不仅提高了声光调制效率,还在通信波段实现了高对比度的非互易声光调制,有望应用于片上窄带微波光子滤波器、光隔离器...
上海大学集成光子芯片实验室(PCL)的研究人员将400 nm厚的掺钪氮化铝AlScN薄膜集成在脊波导和叉指换能器结构上,首次实现了基于AlScNOI(绝缘体上AlScN)平台的声光调制功能验证。通过优化器件结构设计,不仅提高了声光调制效率,还在通信波段实现了高对比度的非互易声光调制,有望应用于片上窄带微波光子滤波器、光隔离器...
一、掺钪氮化铝与TF-SAW的关系 掺钪氮化铝(ScAlN)是一种具有优异性能的压电材料,近年来在声波谐振器领域备受关注。而TF-SAW(薄膜体声波谐振器)是一种利用压电效应实现频率控制和选择的器件。那么,掺钪氮化铝是否是TF-SAW呢? 严格来说,掺钪氮化铝本身并不是TF-SAW,而是T...
对于掺钪氮化铝而言,其折射率约为2.2,这意味着光在掺钪氮化铝中的传播速度约为真空中传播速度的1/2.2。了解掺钪氮化铝的折射率有助于我们更好地设计和优化基于该材料的光学器件。 二、折射率与波长的关系 虽然掺钪氮化铝的折射率大致为2.2,但实际测量中发现,折射率会随波长的变化而略有波动...
此外,掺钪氮化铝(AlScN)表现出接近AlN的宽电子带隙,拥有从紫外到中红外的宽光学透明窗口。因此,基于AlScN薄膜的声光调制器有望促进片上声光器件的进一步发展。 为了证明AlScN薄膜具有实现声光调制的潜力,上海大学集成光子芯片实验室(PCL)的研究人员将脊波导和叉指换能器集成在400 nm厚的AlScN薄膜上,首次实现了基于...
掺钪氮化铝作为一种高性能陶瓷材料,其工作频率受多种因素影响。在工业生产中,掺钪能影响氮化铝的晶格结构,导致材料介电常数变化,进而影响工作频率。若您发现掺钪后工作频率变小,可能是掺钪量或工艺未优化。我们平台专注高性能陶瓷材料,可为您提供定制化掺钪氮化铝方案,优化工作频率。您具体是用于哪种应用场景?我们...
本发明涉及一种掺钪氮化铝的高频谐振器及其制造方法。该谐振器包括:高声速材料的衬底层、位于衬底层之上的欧拉角为(0°,90°,90°)或(90°,90°,180°)的温度补偿LGS层、位于温度补偿LGS层之上的ScxAl1‑xN压电层,x为41%或43%;以及压电层上的占空比为0.5-0.6的电极。其制造方法包括:将注入了离子的ScxAl...