氧化硅掩蔽层在半导体器件制造中扮演着重要的角色。它不仅可以保护特定区域,还可以控制器件的形状和尺寸,从而实现高精度、高可靠性的半导体器件制造。此外,氧化硅掩蔽层还可以提高器件的稳定性和可靠性,延长器件的使用寿命。 总之,氧化硅掩蔽层是半导体工艺中不可或...
制作场氧区的时候,氮化硅的作用是作为LOCOS氧化时的掩蔽层。A.正确B.错误的答案是什么.用刷刷题APP,拍照搜索答疑.刷刷题(shuashuati.com)是专业的大学职业搜题找答案,刷题练习的工具.一键将文档转化为在线题库手机刷题,以提高学习效率,是学习的生产力工具
摘要: 本文计算了掩蔽与选择性热氧化GaAs-GaAlAs多层结构中的应力与光弹性效应.提出介质洛埃镜干涉法,直接观测了GaAs上掩蔽生长热氧化膜引起的应力-光弹性效应的折射率分布,测量结果在定性和数量级上与理论计算一致.本文也扼要介绍了应力和光弹性效应对半导体激光器特性的影响及应用于集成光学的可能性.关键词:...
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