根据客户的设计要求，公司用光刻机在原材料上光 刻出相应的图形，将不需要的金属层和胶层洗去，得到掩膜版产成品。根据基板材质 的不同，产品主要可分为石英掩膜版、苏打掩膜版和其他（包含凸版和菲林）。
在掩膜版精度方面，通常用 CD 精度来衡量掩膜版图形特征尺寸与设计值的偏差， 表征掩膜版图形特征尺寸均匀性。相对于平板显示、PCB 等领域掩膜版产品而言，半导体掩膜版在最小线宽、CD 精度、 位置精度等重要参数方面，均有显著提升，因此通常定价水平更高，同时在半导体器件领域，下游客户对生产模具的价格 敏感性更低...
路维光电是国内最早进入掩膜版领域的企业之一，在平板显示、半导体等行业用掩膜版方面具有多年的技术积累，技术水平处于国内领先地位。路维光电通过自主研发成功突破G11掩膜版在图形精度、缺陷控制等方面的诸多技术与工艺难点，于2018年开工建设国内首条G11高世代掩膜版项目，于2019年成功实现G11高世代TFT-LCD掩膜版的投产...
掩膜版基本概况掩膜版是集成电路制造过程中用于光刻技术中的一种重要元件，其作用是使光刻机在硅片上曝光形成电路图案。在光刻工艺中，掩膜版将电路设计图形从图形数据库中转移到硅片上。掩膜版基本概况包括掩膜版制造工艺流程、掩膜版材料、掩膜版图形尺寸及精度等。掩膜版制造工艺流程包括数据准备、光刻、显影、定影和...
掩膜版，亦称光罩，是微电子制造领域内光刻工艺不可或缺的核心组件，其角色相当于传统摄影中的“底片”，扮演着承载精密图形设计和技术知识产权信息的媒介角色。这一技术广泛应用于半导体生产、平板显示制造、电路板生产及触控屏产业等多个高科技领域。依据最终应用领域的差异，掩膜版被细分为平板显示掩膜版、半导体掩膜版...
半导体掩膜版，又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造过程中用于图形转移的关键部件。它是一种高精度的工具，用于在光刻工艺中将设计好的电路图形转移到基板或晶圆上，从而实现批量化生产。半导体掩膜版的工艺流程主要包括CAM图档处理、光阻涂布、激光光刻、显影、蚀刻、脱膜、清洗、宏观检查、自动光学检查、精度...
1 掩膜版：电子制造之底片，晶圆光刻之蓝本 1.1 掩膜版：光刻工艺中必不可少的图形转移母版 掩模版，又称光掩模版、光罩等，是微电子制造过程中的图形转移母版,是承 载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体，是平板显示、半导体、触控、电 路板等行业生产制造过程中重要的关键材料。掩膜版的作用是将设计者的...
科技自主可控之：半导体掩膜版概念梳理及最新核心龙头概念股一览！ 注释：掩膜版（Photomask），又称光罩、光掩膜、光刻掩膜版等，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版， 由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上。掩膜版是芯片制造过 程中的图形“底片”，用于转移高精密...
掩膜版是芯片制造过 程中的图形“底片”，用于转移高精密电路设计，承载了图形设计和工艺技术等知识产权信息。掩模版用于芯片 的批量生产，是下游生产流程衔接的关键部分，是芯片精度和质量的决定因素之一。掩膜版的功能类似于传统照相机的底片。制造商通常根据客户所需要的图形，用光刻机在原材料上光刻出 相应的图形，...
掩模版(Photomask)又称光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等,是光刻工艺中关键部件之一,是下游行业产品制造过程中的图形“底片”转移用的高精密工具,是承载图形设计和工艺技术等知识产权信息的载体。掩模版用于下游电子元器件制造业批量生产,是下游行业生产流程衔接的关键部分,是下游产品精度和质量的决定因素之一...