石英掩模版使用石英玻璃作为基板材料,透光率高,热膨胀系数低,比苏打玻璃更平整耐磨,使用寿命更长,主要用于高精度掩模版;苏打掩模版用苏打玻璃作为基板材料,由于材料的原因,各方面性能都劣于石英掩模版,主要用于中低精度掩模版;树脂基板由于透光率一般,不耐用,精度低,主要用于PCB掩膜。 掩模版是集成电路制造过程中的图...
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图一 掩模版工作原理 掩模版在设计时有着明场和暗场之分,在其与之光刻胶(正、负胶)曝光时可以根据工艺时的需要来选择设计。上文已经提到正光刻胶曝光区域被溶解,负胶则相反。如图二所示。 图二 掩模版特性 掩膜版主要由基板和遮光膜两个部分组成。基板分为树脂基板和玻璃基板,玻璃基板主要包括石英基板和苏打基...
1） 绘制生成设备可以识别的掩膜版版图文件（GDS格式）2） 使用无掩模光刻机读取版图文件，对带胶的空白掩膜版进行非接触式曝光（曝光波长405nm），照射掩膜版上所需图形区域，使该区域的光刻胶（通常为正胶）发生光化学反应 3） 经过显影、定影后，曝光区域的光刻胶溶解脱落，暴露出下面的铬层 4） 使用铬刻蚀液...
最终,经过严格检验合格的光刻掩模版会被送往半导体生产线,用于制造我们日常使用的各种电子产品中的芯片。 值得一提的是,随着科技的发展,光刻掩模版的制造技术也在不断进步。如今的掩模版已经可以实现纳米级别的精度,这是人类科技发展的一个奇迹。 除了精度之外,光刻掩模版的稳定性和耐用性也...
1.1 掩模版:芯片电路图转移模板，光刻工艺关键材料 掩模版是微电子制造过程中的图形转移母版。掩模版由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩模图形，用于选择性地阻挡曝光、辐照或物质穿透，将设计好的芯片电路图通过曝光等工艺转移至下游行业的基板或晶圆上，是微电子制造过程中的图形转移工具或者母版。光刻工艺是集成...
在集成电路制造工艺中,光刻是决定集成器件集成度的核心工序,该工序的作用是将图形信息从掩模版(也称掩膜版)上保真传输、转印到半导体材料衬底上。光刻工艺的基本原理是利用涂敷在衬底表面的光刻胶的光化学反应作用,记录掩模版上的器件图形,从而实现将集成器件图形从设计转印到衬底的目的。
龙图光罩成立于2010年，专注于半导体掩模版的研发、生产和销售。掩模版又称“光罩”，是半导体制造的关键材料之一，由于其技术壁垒较高，国内市场长期由国际大厂所占据，国产替代需求紧迫。龙图光罩是国内稀缺的具备关键技术攻关能力，拥有自主知识产权的独立第三方半导体掩模版厂商。 01 掩模版：半导体制造工艺中的关键材料...
掩模版是晶圆厂生产晶圆必备核心材料,在28nm及以下的先进制程方面,制造工艺复杂且难度大。加之自身实力不足,国内独立的第三方掩模版企业大都集中在平板显示掩模版领域。目前走到上市阶段的只有3家,清溢光电、路维光电以及龙图光罩,其中前两家主要是做中大尺寸平板显示掩模版,以半导体为主营业务的只有龙图光罩一家;并且...
掩模版(mask)简称掩模,是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形,光线透过它,把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。在投影式光刻机中,掩模作为一个光学元件位于会聚透镜(condenser lens)与投影透镜(projection lens)之间,它并不和晶圆有直接接触。 掩模版制造在半导体产业链中是一...