薄膜沉积技术进一步拓展到光电子、能源材料等领域。例如，在太阳能电池制造中，薄膜沉积被用于高效低成本的薄膜光伏电池的制备；同时，生物医疗、传感器等多元化应用领域也对薄膜沉积技术提出了新的需求。三、薄膜沉积工艺的分类 目前，主流的薄膜沉积设备和技术包括物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）和原子层沉积（
《掠射角磁控溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜》.docx,《掠射角磁控溅射沉积纳米结构氧化钨薄膜》 一、引言 随着纳米科技的飞速发展,纳米结构材料因其独特的物理和化学性质在众多领域中得到了广泛的应用。其中,氧化钨纳米薄膜因其良好的导电性、光学性能以及在气敏传感器、光电
20世纪90年代，原子层沉积（ALD）技术开始崭露头角，因其能够在原子级别精确控制薄膜厚度和成分，尤其适...
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掠射角沉积法 2) Grazing incidence 掠射 3) grazing angle 掠射角 1. A linear system treatment of short-wavelength surface scattering theory is introduced, based on which, features of soft X-ray grazing incidence optical scattering are investigated when the wavelength and thegrazing angleis differen...
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本发明总的来说涉及通过掠射角沉积来制造本体异质结有机光伏电池的方法。更具体来说,它涉及通过斜角真空沉积(即其中蒸气流的轨道不与衬底平行)来生长用于本体异质结的有机薄膜。 背景技术: 光电器件依靠材料的光学和电子学性质,通过电子产生或检测电磁辐射,或从环境电磁福射产生电。光敏光电器件将电磁福射转变成电。
【摘要】采用掠射角反应磁控溅射法在室温下沉积了纳米结构氧化钨(WO3)薄膜,并对薄膜进行热处理.利用场发射扫描电镜(FE-SEM)和X射线衍射仪(XRD)对氧化钨薄膜的形貌和结构进行了表征.当掠射角度为80°时,采用直流电源沉积的氧化钨薄膜具有纳米斜柱状结构,而采用脉冲直流电源沉积的薄膜呈现纳米孔结构.纳米薄膜经450...