PF-300T Altair 系列是我公司自主研发的热原子层沉积(Thermal Atomic Layer Deposition)设备,以高产能PEALD设备核心技术为基础,针对相应薄膜沉积的特殊性,对反应腔模块及关键部件优化设计,实现成本更低,纯度更高的薄膜的沉积。 产品特点- 理想的热原子层沉积系统- 更快速的脉冲及吹扫,实现更
-可与8英寸兼容互相切换(PF-200T SA) -可搭载1-3个PM -通过S2安全认证和F47标准检验 SACVD次常压化学气相沉积设备 PF-300T SAF, PF-200T SA由拓荆科技股份有限公司 为您提供,如您想了解更多关于SACVD次常压化学气相沉积设备 PF-300T SAF, PF-200T SA报价、参数等信息 ,欢迎来电或留言咨询。
公司已形成多款平台型号,以满足不同客户的需求。公司PF-300T和NF-300H系列型号可以最多搭载3个反应腔。此外,公司陆续推出了多款高产能平台,包括TS-300/TS-300S和PF-300M系列型号,可以最多搭载5个反应腔。感谢您的关注!