抗粘剂涂胶机,抗粘 剂真空预处理系统重要性 在纳米压印工艺中为防止在退模过程中模板与压印胶相互粘连破坏结构,我们需要给模板制备抗粘层,制备抗粘层的方法以及模板的结构也会影响到终的抗粘效果。当模板结构在100nm以下时,在液相中制备的抗粘层就不能*起到抗粘的作用。这是因为在模板的角落中会滞留一部分空气而导致抗粘材料无法
全氟辛基三氯硅烷涂胶机,抗粘剂PFTS烘箱主要用于纳米压印光刻(NIL)应用,防粘涂层的制备,可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶;以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。 全氟辛基三氯硅烷涂胶机,抗粘剂PFTS烘箱的详细资料: 全氟辛基三氯硅烷涂胶机,抗粘剂PFTS烘箱的应用领域: 在纳米压印工艺中,要求...
硅烷涂胶机主要用于纳米压印光刻(NIL)应用,防粘涂层的制备,可用于光刻工艺中HMDS增粘剂涂胶;以及功率半导体,LED,MEMS,半导体分立器件等硅烷沉积涂胶工艺。全氟辛基三氯硅烷涂胶机,抗粘剂PFTS真空烘箱的技术性能:容量:1-12寸均可,300*300*300,450*450*450,600*600*600(mm)硅烷添加剂:1-2种...