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品牌: 托托科技 特征尺寸: 0.6µm 技术类型: 无掩模板 应用领域: 科研、电子 光刻方式: DLP投影式 驱动电机: 无铁芯直线电机 画幅: 6英寸 优势: 高效灵活 精度: 高 托托科技 高精度步进光刻 无掩膜光刻机 UV Litho-ACA Pro 价格说明 价格:商品在平台的展示标价,具体的成交价格可能...
托托科技 科研版无掩膜光刻机,光刻机又名掩膜对准曝光机,是芯片制造流程中光刻工艺的核心设备。其主要用途是生产集成电路,将设计好的集成电路模板复刻到硅晶圆上,从而生产出微小、精确、高效率的集成电路。根据光刻机的曝光方式,主要可以分为
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