集成电路制造实验室,图中设备用来生长集成电路的薄膜。图片来源 中国科学院微电子所 王晓磊表示,晶圆制造技术的特征尺寸越小,芯片计算速度越快、越省电、越便宜。“根据摩尔定律,每隔18个月,器件特征尺寸缩小0.707倍,集成度增大1倍;相应地,单位面积的芯片性能增加15%,功耗降低40%,成本降低35%。”“目前,...
“一直以来,光刻机最小分辨率是技术节点微缩的重要驱动力。”王晓磊介绍,比如45纳米技术节点,采用193纳米紫外光源;14纳米技术节点,采用浸没式光刻技术;到了7纳米,为了实现更小光刻分辨率,使用极紫外光源,即EUV光刻技术。 “一般来说,用于成像的光源波长越短,光路空间的折射率越高,分辨率越好。”王晓磊介绍,EUV光刻采...
“一直以来,光刻机最小分辨率是技术节点微缩的重要驱动力。”王晓磊介绍,比如45纳米技术节点,采用193纳米紫外光源;14纳米技术节点,采用浸没式光刻技术;到了7纳米,为了实现更小光刻分辨率,使用极紫外光源,即EUV光刻技术。 “一般来说,用于成像的光源波长越短,光路空间的折射率越高,分辨率越好。”王晓磊介绍,EUV光刻采...
王晓磊 中国科学院微电子研究所 / 科研之友号:81643142 科研之友人员唯一编号 0 项目 39 成果 548 阅读 0 下载 155 被引 8 H-指数 主页 成果