因此，深入研究半导体工艺窗口优化具有重要的现实意义。二、半导体工艺基础 （一）光刻工艺 光刻是半导体制造中最关键的工艺之一，它的作用是将设计好的电路图案精确地转移到半导体晶圆上。光刻工艺主要包括光刻胶的涂覆、曝光、显影等步骤。光刻胶是一种对光敏感的材料，在曝光后会发生化学反应，通过显影可以去除未曝光部分
半导体工艺窗口优化研究 一、引言 在半导体制造领域，工艺窗口的优化对于确保芯片制造的高质量、高产量以及成本控制至关重要。工艺窗口描述了在制造过程中，各种工艺参数能够满足产品设计要求的取值范围。随着半导体技术不断向更小的制程节点发展，工艺窗口变得越来越狭窄，这给芯片制造带来了巨大的挑战。因此，深入研究半导体...
图1 结晶材料的工艺窗口(变量为模具温度和保压压力) 图2 非结晶材料的工艺窗口(变量为熔料温度和保压压力) 在图1和图2的工艺窗口之外的区域,就会发生诸如飞边、内应力过大和缩水等问题,导致产品报废。当熔料温度低于工艺窗口熔料温度下限值时,未熔化的塑料可能导致质量问题,而高于温度限值时,降解的塑料依然可能...
金融界2025年1月18日消息，国家知识产权局信息显示，华芯程（杭州）科技有限公司申请一项名为“工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端”的专利，公开号 CN 119312750 A，申请日期为2024年12月。专利摘要显示，本申请提供工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端，通过目标函数优化与数值规划求解方法，解决...
华芯程申请工艺窗口优化方法等专利,扩展工艺窗口 炒股第一步,先开个股票账户 金融界2025年1月18日消息,国家知识产权局信息显示,华芯程(杭州)科技有限公司申请一项名为“工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端”的专利,公开号 CN 119312750 A,申请日期为2024年12月。
本申请提供工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端,通过目标函数优化与数值规划求解方法,解决了弱点和坏点区域光强对比度低、工艺窗口有限及成品缺陷率高的问题。采用弱点和坏点区域光强对数斜率平方和作为优化目标,结合边段移动范围、边缘位置误差及相互影响因素,建立合理优化模型。同时引入稀疏矩阵、密矩阵等多种矩...
工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端专利信息由爱企查专利频道提供,工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端说明:本申请提供工艺窗口优化方法、装置、介质、程序产品及终端,通过目标函数优化与数值规划求解方法,解决了弱...专利查询请上爱企查
在建筑工程中，网裂贴与沥青摊铺的衔接需严格把控时间窗口并优化压实工艺，以下为具体分析与建议：时间窗口控制 铺设后及时覆盖：网裂贴铺设后应尽快进行沥青摊铺，以减少紫外线老化和其他环境因素对网裂贴的影响。一般建议在铺设网裂贴后不超过4小时完成罩面（沥青摊铺），以避免网裂贴性能下降。环境温度考量：施工...
狭缝涂布操作窗口能够控制涂布流量和粘度,能够适用于电子器件的涂装工艺。 综上所述,狭缝涂布操作窗口是一种优化涂布工艺的关键技术,可以控制涂布流量、粘度和饱和度等关键参数,提高涂布质量,减少涂布成本,并能够适用于各种涂布材料和工艺。其应用范围广泛,可以优化汽车外饰件...
牵引电机定子出线窗口密封工艺优化 摘要:牵引电机为高电压大电流电气设备,一般通过设置接线盒来实现定子引出线的接线端子和机车主电缆之间的连接。牵引电机接线盒内部应足够清洁,以避免接线端子发生对地放电和爬电等问题。为了保证接线盒内良好的清洁度,确保牵引电机的运行质量,应保证定子引出线的出线窗口位置和接线盒上的...