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在光刻机中,晶圆工件台的作用是承载晶圆,按照指定的运动轨迹做高速超精密运动并完成一系列曝光所需动作。这些动作包括上下片、对准、晶圆面型测量和曝光等。 晶圆工件台 2.晶圆工件台的结构 2.1 单工件台 传统的光刻机中只有一个工件台,晶圆的上下片、测量、对准、曝光都是按照顺序来进行的。 单工件台的结构 ...
￥10.00万/台 上海 四轴转台双头双工件双胞胎多头联动分度盘数控旋转工作台 在线交易 少货必赔 数控 上海力如机械有限公司 5年 查看详情 ￥6000.00/台 江苏南通 灵敏牌 铝件打磨除尘工作台 双工位湿法水帘集尘 工件抛光台 定制 防爆电机 除尘 南通灵敏环保设备有限公司 3年 查看详情 ￥2980.00/台 河北沧州 ...
双工件台系统 为了进一步提升光刻机的生产效率，现代光刻机普遍采用了双工件台设计。这种设计包含两个完全独立却又协同工作的工件台，其中一个进行光刻处理，另一个则同步进行晶圆的装载和对准工作。这样的布局显著减少了晶圆更换所需的时间，进而提升了光刻机的整体吞吐量。双工件台系统发展历程 1970年代至1990年代初...
光刻机的主要作用:光源发出光,通过光学镜片系统,将掩模台上掩模板的图形投影到工件台的硅片上,对硅片表面形成曝光,即实现将电路走线光刻到芯片上的功能。 光刻机的三大指标:分辨率、套刻精度和产片率。国际上最先进的光刻机ASML公司的EUV光刻机NXE3600D,采用极紫外光源。国内量产机型为90nm,大幅落后国际先进水平...
在半导体芯片的制造过程中,光刻双工件台可是个不可或缺的“隐形英雄”。它可是光刻机的一部分,专门用来同时放置两个工件,这样一来,生产效率就大大提高了。你知道吗?在光刻过程中,工件台的定位和控制得非常精确,这样才能确保图案的精度和准确性。套刻精度是啥?简单来说,就是对于那些需要多个光刻层的芯片,不同层...
湿式双工件台是指在光刻过程中,将晶圆和板子分别放在两个不同的台子上,晶圆在曝光时处于液体中。这种工艺适用于对晶圆表面要求较高的芯片制造工艺,因为液体可以帮助去除晶圆表面的杂质和污染物,从而保证光刻质量。 湿式双工件台的优点是曝光过程中可以进行液体清洗,能够...