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Nikon分步投影光刻机NSR-S204B,用于集成电路生产过程中的微光刻工艺,通过投影成像方式,把掩模版上集成电路图形以高分辨率、高精度、高效率的方式分步重复曝光在涂有胶层的硅片表面。 Nikon分步投影光刻机NSR-S204B含有硅片自动传输系统、版库自动管理系统、可编程掩模光栏、自动调焦调平、硅片自动对准、掩模板自动对准...
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NSR-SF120的设计方式类似于扫描型KrF步进器NSR-S204B、NSR-S205C和NSR-S206D,以及ArF步进器NSR-S305B和NSR-S306C。新开发的高数值孔径镜头使i-line分辨率飞跃至280 nm。该系统可以有效地暴露次临界层以支持130-100 nm设备节点,同时为300 mm时代提供高吞吐量。
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