在芯片制造过程中,光刻工艺是至关重要的一环。而套刻设备则是这一环节中的核心设备,它负责将设计好的电路图案精确地转移到硅片上。通过高精度的对准和叠加技术,套刻设备能够实现多层图案的精确匹配,从而确保芯片结构的精确性和功能性。 二、套刻设备的技术原理 套刻设备...
测量设备 传统的套规具有价格低廉、操作简单等优点,但测量精度依赖于操作人员的经验和技能水平,且测量范围受到限制。 二、三坐标套刻测量仪 三坐标套刻测量仪是一种可自动化测量套刻内径尺寸的高精度测量设备,其原理是利用三维坐标轴和先进的图像处理技术,实现对套刻内径尺寸的测量和分析。 三坐标套刻测量仪...
2024年1月30日上午,魅杰光电科技(上海)有限公司的首台28nm套刻精度量测设备成功出货。标志着魅杰光电成为国内为数不多的技术实力和技术储备达到国内关键工艺节点上的企业。 精彩发言,鼓舞斗志 魅杰光电 董事长-温任华 发言致辞魅杰光电董事长温任华首先向各位嘉宾、股东以及朋友们表示衷心的感谢与欢迎,随后说明了28n...
套刻误差的定义是两层图形结构中心之间的平面距离。随着集成电路的层数不断增多,多重图形和多重曝光的光刻工艺被广泛应用,不同步骤形成的电路图形之间的套刻精度愈发重要。套刻误差过大形成的错位,会导致整个电路失效报废。套刻误差测量设备,用于确保不同层级电路图形,和同一层电路图形的正确对齐和放置。套刻误差测量...
先说说这两台新光刻机吧，分别是193纳米氟化氩（ArF）光刻机，它们的核心参数如下：照明波长：193纳米 分辨率：65纳米 套刻精度：8纳米 就冲这些数据，很多人就开始欢呼了：“中国制造，太厉害了！”等等，别急着喷红牛，咱们得仔细看看。这套刻精度和制程技术你以为是一回事？事实上可不是，网上那些说什么“8...
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套刻精度量测设备主要包括高精度光学显微镜、激光干涉仪、图像处理系统等。通过高精度光学显微镜观察半导体芯片上的图案,再通过激光干涉仪对图案进行高精度测量和分析,最后通过图像处理系统对测量结果进行处理和分析,从而评估套刻精度是否符合要求。 二、套刻精度量...
9nm，其产品性能直接影响光刻工艺良率。对于本轮融资，卓源亚洲创始合伙人董事长林海卓博士表示：“半导体Overlay套刻设备领域KLA是前道量检测设备⼏乎各领域的龙头，全球⼏乎只有KLA和ASML，⽽KLA的市场占比超过60%。我们高度看好埃瑞微半导体在国产化半导体核心设备研发和量产中的经验与技术优势。”
2024年7月20日协会召开了《套刻设备验收标准及验收标准片》团体标准第一次工作会议。该项标准旨在推动光刻用套刻设备和验收标准的统一,促进产业的规范化高质量发展。 首先协会团标委会负责人吴茹茹向与会嘉宾介绍了该团体标准的制定背景、...
当然，拿出家伙事儿，还得看看老外干得咋样，才知道咱们到底有几斤几两。全球顶尖的光刻机厂商ASML家的设备，那可是一等一的强。比如它们的1460k光刻机，虽然也是65纳米分辨率，但套刻精度能达到5纳米，比咱们国产光刻机还高。还有更厉害的呢，ASML的1470光刻机，分辨率直接下探到57纳米。这一对比，恐怕有些人...