国产7nm芯片是使用amsl的28nmDUV光刻机用SAQP多重曝光做出来的,中芯自称是N+2工艺,这个是复制台积电N7+的改进版,N+2达到1.27亿每平方毫米。DUV光刻机含有的美国专利不多所以asml是可以出口,但是更先进的EUV光刻机出口中国没有漂亮国同意是不可能的,EUV光刻机漂亮国持有大量的专利技术,再加上其他国家最顶尖的技...