综上所述,双重与多重图形技术在先进半导体制造中发挥着重要作用,通过不同的工艺组合和优化,可以实现高精度、高效率的图形转移,满足日益缩小的芯片尺寸需求。 双重显影技术 双重显影(Double Tone Development, DTD)技术是由Asano首次提出的,该技术通过分别对光刻胶的高剂量曝光...
双重图形技术(Double Patterning, DP)是半导体制造中用于实现关键尺寸(Critical Dimension, CD)小于45nm芯片的关键技术。 与非线性双重曝光技术不同,双重图形技术不存在材料与产率方面的问题,因此被广泛应用于先进半导体制造中。双重图形技术通过单次或两次独立曝光实现图形转移,并可进一步推广至三重和四重图形技术,本文对...
2024年12月21日,北京北方华创微电子装备有限公司在国家知识产权局申请了一项名为“自对准多重图形的形成方法及半导体器件”的专利。这一创新申请的公开号为CN119153318A,标志着半导体制造领域的一项重要技术突破,其专利的申请日期为2023年6月。该技术旨在解决当前自对准双重工艺在小尺寸要求方面的局限性,尤其在日益紧凑...
北方华创近年来在半导体装备领域不断加码投资和技术研发,力求在全球半导体产业中提升竞争力。此项自对准多重图形的形成方法不仅满足了市场对小尺寸、高精度半导体器件的需求,也为公司在技术创新和知识产权保护方面增添了强劲实力。随着半导体产业的不断发展和创新技术的引入,北方华创有望在未来获得更大的市场份额,并推动整...
双重图形技术(DPT)已经用于IC芯片制造的45nm技术,对于这种双重图形化工艺,以及32nm和22nm技术节点。可以通过多次图形化,如三次(三重图形化)或四次,进一步减少有效的私并转移更细的线条。如果下一代光刻技术(如EUV光刻技术)还不成熟,16nm及以后的技术节点将会使用多重光刻图形化技术。
图形学多重采样 多重图与简单图 图的定义 图G由顶点集V和边集E组成,记为G = (V, E),其中V(G)表示图G中点的有限非空集;E(G)表示图G中顶点之间的关系(边)集合。 注意:线性表可以是空表,树可以是空树,但图不可以是空,即V一定是非空集,最少存在一个顶点。
金融界2024年12月31日消息,国家知识产权局信息显示,全芯智造技术有限公司取得一项名为“多重图形化方法、电子设备及计算机可读存储介质”的专利,授权公告号CN 118712048 B,申请日期为2024年8月。 天眼查资料显示,全芯智造技术有限公司,成立于2019年,位于合肥市,是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注...
多重图形显示技术 支持NVIDIA® Quad-GPU SLI™ 技术 支持NVIDIA® 4-路 SLI™ 技术 支持AMD® Quad-GPU CrossFireX™ 技术 支持AMD 4-路 CrossFireX 技术 4 x PCIe 3.0/2.0 x16 扩展卡插槽 (single at x16, dual at x16/x16 mode, triple at x16/x8/x8 mode or quad x8/x8/x8/x8 mode)...
全芯智造取得多重图形化方法等专利 快报2024-12-31 17:11:29 金融界灵通君 北京 举报 0 分享至 0:00 / 0:00 速度 洗脑循环 Error: Hls is not supported. 视频加载失败 金融界灵通君 150粉丝 金融界旗下账号 01:04 苏州芯长源取得引线框架自动收料装置专利,实现在料盒提升过程中对其定位固定...
4.2 多重图形技术书名: 计算光刻与版图优化 作者名: 韦亚一等 本章字数: 8427字 更新时间: 2021-02-22 16:25:27首页 书籍详情 目录 听书 自动阅读摸鱼模式 加入书架 字号 背景 手机阅读 举报 上QQ阅读APP看后续精彩内容 下载QQ阅读APP,本书新人免费读10天 设备和账号都新为新人 登录订阅本章 >...