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首先啊，咱们得明白什么是EUV光刻机。简单来说，光刻机就是制造芯片的关键设备，它能把电路图案“刻”到芯片上。而EUV光刻机，就是使用极紫外光（EUV）作为光源的光刻机，它能制造出更精细、更先进的芯片。以前啊，这个技术一直被外国公司垄断，咱们得花大价钱去买他们的设备，还得看他们的脸色。为什么咱们要有...
咱们的技术还没完全甩开别人一大截，但ASML那个光刻机大老板的地位可有点儿吃紧了。国内国外的几个大厂一起捣鼓出来的5nm级别的EUV光刻机，已经在计划里排上了档期，而且看起来进展挺顺利的。说到“弯道超车”，其实不一定非得从EUV光刻机下手，咱们自己研发的193nm氟化氩光刻机，早就达到了理想的突破了。国产...
而EUV光刻机技术,对于全球所有的国家而言,都是难事,否则就不会只有ASML一家能够制造了,连美国、日本都制造不出来。 所以现在国产企业能够在EUV光源的收集上有专利,并且改进了ASML的技术,也是一个大突破了,我们相信后续随着这新的积累越来越多,那么国产EUV光刻机,也就水到渠成了。
而EUV光刻机技术,对于全球所有的国家而言,都是难事,否则就不会只有ASML一家能够制造了,连美国、日本都制造不出来。 所以现在国产企业能够在EUV光源的收集上有专利,并且改进了ASML的技术,也是一个大突破了,我们相信后续随着这新的积累越来越多,那么国产EUV光刻机,也就水到渠成了。
要实现国产化的EUV光刻机，主要面临两大关键挑战：光源技术和供应链体系。目前我们在光源技术方面取得了一定的进展，成功率达到了50%。剩下的五成是要处理EUV光刻机的供应链难题。在供应链中，光学镜头是最具挑战性的部分。光刻机的镜头完全被德国蔡司垄断，目前暂时没有合适的供应商可替代，这也是国产高端光刻机...
2、实现28-14nm光刻机，意味着工业独立。3、实现7nm光刻机，意味着电子工业独立。国产193nm光源光刻...
即便是芯片制造巨头美国，也未能自主生产出EUV光刻机。原因很简单，这不仅是科技的对拼，更是全球顶尖供应链整合能力的较量。换句话说，ASML并非孤军作战，它背后是由超过5000家供应商和45万套零件构成的全球化合作网络。国产光刻机的“差距之痛”：不仅技术，还有几代积累的差距 尽管国产光刻机一直在奋起直追，但...
可能已经率先在测试。毕竟只是猜测，但空穴来风必有因，推测大概率两三年内国产EUV 光刻机会量产，甚至...
EUV光刻机共有三大核心技术,分别为EUV光源系统,高精度弧形离轴反射镜构成的光学系统以及超高精度真空双工件台。其中EUV光学系统就像科幻世界中的虫洞那样,这边是碳基人类的物理世界,那一边则连接着硅基微观赛博世界。 因为几乎所有材料对13.5nm的EUV都强烈吸收,故EUV光刻机不能采用DUV那样的透镜,只能采用反射式光学系统...