前3篇介绍了聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷、聚硅烷及相关聚合物的合成、改性技术,结构与性能,以及应用技术等;第4篇介绍了含硅聚合物面临的挑战以及令人感兴趣的领域,包括含硅乙烯基单体及聚合物、有机硅高分子液晶、有机硅树枝状大分子、光学活性有机硅聚合物、有机硅酸酯低聚物与纳米结构材料等。
本书《含硅聚合物：合成与应用》是由冯圣玉等译者合作完成，原著作者包括美国的琼斯（R.G. Jones）、日本的安藤亘（Wataru Ando）以及波兰的乔努斯基（J. Chojnowski）等人共同编撰。该书作为一套系列图书的一部分，隶属于化学工业出版社出版。本书的国际标准书号（ISBN）为9787122017246，出版日期为2008年...
含硅聚合物:合成与应用美 琼斯 Jones, G. Richard日 安藤亘波 乔努斯基 Chojnowski, JulianJonesRG,AndoW,Ch~nowskiJ.含硅聚合物合成与应用[M].冯圣玉,栗付平,李美江译.北京:化学化工出版社,2008,87.Jones R G,Wataru A,Chojnowski J.含硅聚合物-合成与应用[M].冯圣玉,粟付平,李美江,等译.北京:化学工业...
1.含硅聚合物:合成与应用 / (美) 理查德 G. 琼斯, (日) 安藤旦, (波兰) 朱利安·乔努斯基等编 ...
含氟硅烷及其聚合物的合成与应用.PDF,维普资讯 综述 ·专论 哺讯硅材料,2003,17.(6):26～29 SILI(X)NEMATERIAL 含氟硅烷及其聚合物的合成与应用 刘新烁 张招贵 黄婷 陈水生 、 (南昌大学化学系,南昌330047) 摘要:着重介绍了含氟硅烷 (尤其是含氟单体)及其聚合物的特性
《含硅聚合物：合成与应用》是2008年化学工业出版社出版，是作者琼斯（Jones，R.G.），（日）安藤亘（Wataru Ando），（波兰）乔努斯基（Chojnowski，J.），等。该书参考了相关领域若干知名专家的研究成果, 比较系统地介绍了含硅聚合物的合成及应用技术。全书共分4篇。前3篇介绍了聚硅氧烷、聚碳硅烷和聚硅氮烷...