题目:《反演光刻技术的研究进展》时间:2025-01-22 摘要: 反演光刻技术(ILT)相比传统的光学临近效应修正(OPC),生成的掩模具有成像效果更好,工艺窗口更大等优点,在当前芯片制造的工艺尺寸不断减小的背景下,逐渐成为主流的光刻掩模修正技术。该文首先介绍了反演光刻算法的基本原理和几种主流实现方法;其次,调研了当前...
华芯程反演光刻软件是由华芯程(杭州)科技有限公司著作的软件著作,该软件著作登记号为:2025SR0358503,属于分类,想要查询更多关于华芯程反演光刻软件著作的著作权信息就到天眼查官网!
题目:《反演光刻技术的研究进展》时间:2025-01-22 摘要: 反演光刻技术(ILT)相比传统的光学临近效应修正(OPC),生成的掩模具有成像效果更好,工艺窗口更大等优点,在当前芯片制造的工艺尺寸不断减小的背景下,逐渐成为主流的光刻掩模修正技术。该文首先介绍了反演光刻算法的基本原理和几种主流实现方法;其次,调研了当前...