暴露光阻去除 翻译结果2复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 删除使暴露抗照片 翻译结果3复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 暴露的光刻胶去除 翻译结果4复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 删除光阻剂的外露。 翻译结果5复制译文编辑译文朗读译文返回顶部 被暴露的光致抗蚀剂的撤除 相关内容 a如果可以,谢谢! If may, thank...
光刻胶去除技术1. Recently, more attention has been paid to a novel photoresist stripping technology based on atmospheric pressure plasma. 光刻胶去除技术在微电子工业中占有非常重要的地位,约占集成电路制造工艺的30-35%,去胶的好坏直接影响产品的成品率及器件和电路的制造成本。
光刻胶膜6) Photoresist film 光刻胶薄膜 例句>> 补充资料:负型光刻胶去膜剂 分子式:CAS号:性质:主要成分为苯酚加溶剂。红色透明液体。能与水、醇等溶剂互溶,有毒且有腐蚀性。适用于去除负型光刻胶光刻后的胶膜以及同类型光刻胶膜的去除。 说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。参考...