原子层沉积技术原理是基于表面自限制反应的薄膜沉积,通过交替引入前驱体并化学吸附反应形成原子级别薄膜。其应用包括微电子领域(如半导体器件、存储器件的制备和保护)、纳米技术领域(如纳米结构材料和器件的制备及表面修饰)以及光学领域(如光学薄膜的制备)。 原子层沉积技术原理及其...
原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于表面自限制反应的薄膜沉积技术。其原理依赖于两个或多个前驱体在反应室中交替引入,通过化学吸附和反应形成原子级别的薄膜。ALD的关键在于每次反应都是自限制的,即每次化学吸附会饱和表面,不会发生过度反应,从而实现对薄膜厚度的精确控制。 反应机理与步骤 ALD过程包括...
原子层沉积（Atomic Layer Deposition, ALD）是一种基于表面自限制反应的薄膜沉积技术。其原理依赖于两个或多个前驱体在反应室中交替引入，通过化学吸附和反应形成原子级别的薄膜。ALD的关键在于每次反应都是自限制的，即每次化学吸附会饱和表面，不会发生过度反应，从而实现对薄膜厚度的精确控制。反应机理与步骤 ALD过程...
原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于表面自限制反应的薄膜沉积技术。其原理依赖于两个或多个前驱体在反应室中交替引入,通过化学吸附和反应形成原子级别的薄膜。ALD的关键在于每次反应都是自限制的,即每次化学吸附会饱和表面,不会发生过度反应,从而实现对薄膜厚度的精确控制。 反应机理与步骤 ALD过程包括...
原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于表面自限制反应的薄膜沉积技术。其原理依赖于两个或多个前驱体在反应室中交替引入,通过化学吸附和反应形成原子级别的薄膜。ALD的关键在于每次反应都是自限制的,即每次化学吸附会饱和表面,不会发生过度反应,从而实现对薄膜厚度的精确控制。
它通过将物质材料以单原子膜的形式一层一层的沉积在衬底表面,实现了对薄膜厚度的精确控制。 原子层沉积的原理是,将两种或更多种前体化学品分别包含被沉积材料的不同元素,一次一种地分别引入到衬底表面。每个前体使表面饱和,形成单层材料。在沉积过程中,反应前驱体是交替沉积的,新一层原子膜的化学反应是直接与之前一...
原子层沉积技术啊,其实就是基于表面自限制反应的薄膜沉积方法。简单来说,就是通过在反应室里交替引入两个或多个前驱体,让它们化学吸附并反应,从而在基底表面逐层构建出原子级别的薄膜。这种技术能精确控制薄膜的厚度,因为每次反应都是自限制的,表面饱和了就不会再过度反应。 它应用可广了,比如在微电子领域,可以用来...
原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于表面自限制反应的薄膜沉积技术。其原理依赖于两个或多个前驱体在反应室中交替引入,通过化学吸附和反应形成原子级别的薄膜。ALD的关键在于每次反应都是自限制的,即每次化学吸附会饱和表面,不会发生过度反应,从而实现对薄膜厚度的精确控制。
本书是面向研究生和从事材料研发等相关行业的科研人员系统介绍原子层沉积技术原理及其应用的一本专业书籍,共13章。包括原子层沉积的发展历史、原理、前驱体、沉积材料及其理论计算与模拟等基础内容,又着重论述等离子体增强原子层沉积和分子层沉积技术,还涉及了原子层沉积在微电子、纳米技术、光学、能源、催化和生物医学...