朝日新聞デジタル キヤノン、シェア奪還の切り札を発売 10年かけた半導体製造装置 写真・図版 1 / 6 前の写真 次の写真 キヤノンのナノインプリントの技術を使って回路を描いた半導体ウェハー=2023年10月18日、横浜市、田中奏子撮影 この写真の記事を見る ...
キヤノンは18日、横浜市で自社技術の展示会を開き、新方式「ナノインプリント」の露光装置をお披露目した。半導体ウェハーに微細な回路を描くための装置だ。 同社が得意とするインクジェットプリンターとカメラの技術を応用した新技術で、プリンターがインクを垂らすように、半導体のウェハーにご...