RTP（Rapid Thermal Processing）快速热处理，是在非常短的时间内将整个硅片加热至400~1300℃温度范围内的一种方法，相对于炉管退火，它具有热预算少，硅中杂质运动小，玷污小和加工时间短等特点。工艺简介 退火：往半导体中注入杂质离子时，高能量的入射离子会与半导体晶格上的原子碰撞，使一些晶格原子发生位移，结果...
半导体rtp是快速热处理的意思。快速热处理，是一种升温速度非常快保温时间很短的热处理方式。升温速率能达到10~100摄氏度每秒。一般采用红外卤素灯或者电阻棒加热，加热时电流很大，功率很大。半导体的制备 1、沙子：硅是地壳内第二丰富的元素，而脱氧后的沙子（尤其是石英）最多包含25%的硅元素，以二氧化...
在半导体工艺中，需要对晶圆做快速热处理（rapid thermal processing，RTP），即在几秒或更短的时间内把晶圆加热到1000 ℃左右。晶圆的加热一般使用大功率的灯泡或激光。高功率激光束按一定的路径在晶圆表面扫描，快速加热晶圆（laser scanning annealing，LSA）。这种快速热处理工艺主要用来激活掺杂（dopant activation）、...