半导体CMP（化学机械平坦化）为何需要进行PI-run？在CMP工艺中，与光刻或蚀刻等其他技术不同，它没有光罩来精确控制精度，因此过程窗口较为狭窄。以半导体制造为例，前道工艺中的STI（浅沟槽隔离）CMP以氮化硅层作为停止层，而到后道工艺，如ILD（介电层）和金属铜/金属铝的CMP，则没有严格的停止层。
都需要pirun
半导体 python经典项目 半导体pirun 一、半导体基本知识 1.1 本征半导体 4价元素,纯净的硅和锗 1.2 杂质半导体 N型半导体:本征半导体中掺入5价元素,形成多余的电子 P型半导体:本征半导体中掺入3价元素,形成多余的空穴 二、PN结 一边P型,一边N型,形成PN结 载流子扩散形成内建电场,电场又使载流子漂移回去,达成平衡。
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半导体fab“黑话” 续1 接上文 highlight , 字面意思就是高亮,但fab中意思有些变化,经常用来表示一个team 指出另外一个team的一些异常,比如PIE highlight ETCH的某个SPC chart trend down。 lowlight,就是和highlight另外一个意思高亮是反意词,就是低亮。比如个人的weekly report中,包含两部分,一部分是high...
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《pirun是什么,半导体为什么要pirun?-CSDN博客》视频说明:辅助赵怜云顺利升仙不只是灵缘斋的门派任务更关乎她和她的丈夫徐浩在门派中的利益猜想一:今年养老金不涨了从前有一个孩子他失去了母亲又被父亲抛弃了和外婆相依为命长大导演: 马修·布罗德里克 编剧...
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fab厂半导体CMP（化学机械抛光）在实际生产之前通常需要进行pilot run（试生产），主要原因如下：1.工艺...
pirun源于两方面，无法对工艺结果进行精确预测和加工结果获得有延时。应对措施则是用wafer进行小批量pirun...